二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 MxP+ #9181328 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 MxP+是一种模块化蚀刻反应器，设计用于高级VLSI和微电子器件的高纵横比处理。采用传统的反应性离子蚀刻（RIE）和等离子体诱导的化学气相沉积（PICVD）工艺，对相片和高长宽比掩模进行了优化。这种溷合式腔室能够在一个设备中定义设备级别的特征和集成过程配方。MxP+是一种单晶片系统，支持高达150毫米的晶片，具有闸门、主室和前室的三区设计。闸室经过优化，以加快真空和纳米湍流模式之间的过渡时间，而主室则用于传递反应性离子和等离子体能量，以蚀刻晶片表面。晶片背面暴露于前室等离子体，以确保均匀蚀刻过程。AMAT P5000 MxP+设计用于高密度设备特征模式,这是最先进的设备设计所必需的。这是通过提供高度稳定的工艺环境，包括主动和被动环境清洁控制技术来实现的。MxP+还提供了快速循环时间和过程可重复性,允许更高的吞吐量和设备产量。MxP+采用了多种蚀刻技术的组合，包括离子束蚀刻、离子增强等离子体蚀刻、高密度等离子体蚀刻和溅射蚀刻，允许各种底物和材料被蚀刻。它还允许用最小的底切或弯曲来蚀刻金属线。为了保证高精度和重复性，腔室具有更严格的压力和温度过程控制，并具有通用的电力和气体分配系统。MxP+还有一个易于使用的配方开发软件单元，它允许工程师在最少干预的情况下快速创建定制配方。配方机还自动调整流程设置，显示蚀刻深度、选择性、均匀性等实时数据。此外，配方制造商软件还内置了保护措施，以确保工艺参数的质量和可重复性。总之，应用材料P5000 MxP+是一种先进的反应器工具，设计用于先进的VLSI和微电子器件的高长宽比处理。它结合了蚀刻技术,为高密度设备提供了无与伦比的精度、可重复性和吞吐率。此外,它还具有自动化配方开发资产,为工程师提供了快速、轻松地创建高度可重现的工艺配方的灵活性。