二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 MxP+ #9200091 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 MxP+反应堆是一种先进的等离子体增强化学气相沉积（PECVD）设备，设计用于半导体加工。它是设计和制造纳米制造材料的下一代平台，如薄膜晶体管（TFT）、纳米线和其他纳米级元件。它非常适合于先进的三维器件集成以及超高质量微电子器件的制造。AMAT P5000 MxP+反应堆具有多种特性，使其成为有吸引力的半导体制造解决方桉。它利用先进的磁增强等离子体（MEP）技术，可以提高沉积速率、颗粒均匀性和工艺均匀性。这使得反应堆能够沉积具有优异电学、热学和化学性质的高质量薄膜。MxP+反应器具有高的工艺收率、高的通量和低的颗粒污染，是三维器件集成的理想选择。APPLICED MATERIALS P5000 MxP+反应堆装有一个多室布置，用于独立组分的协同依赖，允许快速反应和高效利用资源。它与现有的热化学控制系统和优化软件完全兼容。这允许在沉积过程中有多个热和化学控制点，确保结果的均匀性和可重复性。此外，MxP+反应堆与先进的射频和磁场控制系统兼容。这允许精确控制等离子体状态和底物温度，以实现更一致、更可重复的性能。P5000 MxP+反应堆配有自动化过程监控系统，使操作员能够跟踪过程性能并根据需要进行必要的调整。该单元提供实时数据收集和分析，有助于优化膜沉积速率、均匀性和质量。此外，MxP+反应堆可以通过自动化和手动控制选项进行远程操作，从而实现快速和经济高效的制造。总体而言，AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 MxP+反应堆是一种先进的等离子体增强化学气相沉积机，适用于高灵敏度、高性能的逻辑和内存设备。它提供了更好的沉积速率、均匀性和颗粒污染，使结果更加可靠和可重现。该反应器具有先进的特点，是先进的三维器件集成和半导体制造的理想解决方桉。