二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 MxP #9218919 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 MxP是为等离子体蚀刻和沉积应用而设计的反应器。它具有灵活、宽间隙的射频源和集成的法拉第屏蔽,允许在各种频率、压力和负载配置上运行。该装置提供可独立调节的气体管线，用于精确控制蚀刻气体和掺杂气体，并采用集成真空泵送系统进行精确的腔室压力控制。它还提供了一套全面的等离子体诊断，包括朗缪尔探测器、光发射光谱、在线晶圆映射和基于等离子体的源功率频率光谱。公司提供所有必要的兼容性升级,包括计算机设备、现场维修和备件。AMAT P5000 MxP既适用于传统的蚀刻和沉积过程，也适用于更先进的等离子体过程，如原子层沉积和离子注入。该单元灵活的配置使得能够对各种材料进行蚀刻和沉积，包括氧化物、氮化物、电介质和金属。其较大的腔室尺寸和空间均匀性使得APPLICED MATERIALS P5000 MxP适合多种工艺，包括高速率沉积和微调蚀刻操作。P5000 MxP被设计为一个交钥匙过程系统，并且配备齐全的操作设备。它包括一个集成的任务处理器，处理自动化的工艺配方，设置和管理等离子体参数和晶片加载。此外,它还提供流程监控和诊断工具,以确保尽可能高的一致性和产量。等离子体电源可以调整到一系列频率、压力和简单复杂的负载，有效覆盖了广泛的材料和加工配方。AMAT/APPLICED MATERIALS P5000 MxP的设计提供可靠的等离子体蚀刻和沉积性能,具有一致的长期过程稳定性和产率。由于设备配备了所有必要的附件、软件和维护工具,因此可以轻松配置、维护和维修设备。此外，其集成的等离子体和晶圆测绘诊断技术确保了在大面积上尽可能高的产量和工艺均匀性。综上所述，AMAT P5000 MxP是一种大容量工艺系统，设计用于与各种材料兼容的基于等离子体的蚀刻和沉积工艺。其强大的设计和集成的诊断技术使其成为涉及高速率沉积、微调蚀刻和原子层沉积的操作的理想选择。