二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 MxP #9226621 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 MxP是一种金属阵列反应器，设计用于半导体器件制造的光刻工艺。该反应器利用等离子体蚀刻和沉积系统的最新创新，在生产高长宽比和均匀金属结构方面取得了优异的效果。反应堆提供了两种电感耦合等离子体（ICP）和电容耦合等离子体（CCP）等离子体源类型的选择,使用户能够为其特定应用选择最佳蚀刻工艺。它还使用了钛升华源，能够对结构化分层硬面膜进行蚀刻。AMAT P5000 MxP的特点是获得了RF匹配技术的专利,以提供最佳的等离子体过程控制和可重复性。反应堆还配备了先进的等离子体均匀性和端点检测能力，以增强工艺窗口，并实现精确和可重复的结果。反应堆的Innovative Reticle Kit还允许用户利用不同的面罩尺寸、形状和线宽，以及利用盲人的氛围、沟槽、平整特征等特征。反应堆的先进功能包括确保精确接触模式和蚀刻深度的化学机械抛光（CMP）能力、自动标线传输系统和确保均匀气体输送的气体聚合系统。反应堆还配备了其他人性化功能，包括简单的用户界面和图形色彩显示，以确保其使用简单、直观、高效。总之，应用材料P5000 MxP是一种最先进的生产反应堆，其设计目的是在复杂结构的生产中提供激光锐利的性能。它结合了先进的等离子体源、过程控制和均匀性功能以及用户友好的功能,使其成为设备制造的通用、经济高效的解决方桉。