二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 TEOS #293824836 待售

ID: 293824836
晶圆大小: 8"
优质的: 1998
PECVD System, 8" DLH type 1998 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 TEOS是一种最先进的高通量反应堆设备,用于生产各种用途的薄膜。该系统设计用于包括硅、二氧化硅、金属氮化物、金属氧化物和其他介电材料在内的材料的切片、蚀刻和沉积应用。AMAT P5000 TEOS配备了电子回旋共振(ECR)等离子体源、定向等离子体辅助蚀刻和直接液体注入(DLI)技术。ECR等离子体源被用于创造一个高度电离的等离子体环境,具有广泛的等离子体参数。定向等离子体辅助蚀刻用于对被加工基板表面的材料进行精确蚀刻。这允许对薄膜进行精确蚀刻和高速率沉积。DLI技术是化学气相沉积(CVD)的一种变体,用于快速沉积厚度、组成和结构均匀的薄膜。该单元具有模块化的腔室设计,可与一系列其他腔室配置结合用于特定应用。它利用先进的机器人运动和晶圆传输机器,以确保高吞吐量和尽量减少人工干预和错误。该工具还配备了精密的温度控制和监测系统。总体而言,应用材料P5000 TEOS是一种多用途、高通量和先进的反应堆资产,设计用于薄膜沉积和蚀刻。具有精密蚀刻、高速率沉积和均匀薄膜的性能.先进的控制系统和自动化的过程控制确保了优秀的薄膜能够以可重复和可靠的结果得到发展。
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