二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 WCVD #9289562 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 WCVD（化学气相沉积）反应器是一种通用、高通量、金属增强的超高真空沉积系统。此高级工具提供了许多功能,使其成为许多不同应用程序的有用工具。AMAT P5000 WCVD反应堆通过其自动薄膜生长特性，在最快的沉积时间提供高通量沉积速率。用户可以从具有最多四个晶片计划的单个、多个或定制区域中进行选择,以实现精确、可重复的胶片增长。该P5000还支持一系列沉积能力，包括蚀刻、金属增强沉积（包括氮化全新、氮化钛和碳化钨），以及像氮化硅和氧化铝这样的材料的保形沉积。APPLICED MATERIALS P 5000 WCVD Reactor还包括广泛的后处理能力，包括纳米制造用毛细管清洗和生产无接触表面用低温退火。这可以使其成为制造半导体和IC的绝佳工具。此外，P5000 WCVD反应堆设计有一个强大的，用户友好的控制界面与触摸屏技术。系统直观的用户界面使导航和操作变得容易,即使对于没有经验的用户也是如此。用户还可以通过一个安全、方便的连接传输历史记录文件、访问远程通信和设置流程条件。该P5000还包含高级诊断功能,可用于预测性维护和过程优化。AMAT P 5000 WCVD反应堆非常适合那些在其过程中需要最新沉积技术的人。这种先进的沉积工具提供了优异的沉积速率和快速的沉积时间，使其成为高纯度薄膜、高纵横比特征和高性能微电子元件中超精确结构的理想选择。从半导体和IC到MEMS和光伏应用，P 5000 WCVD反应堆是那些需要最高效的高通量沉积系统的人必不可少的工具。