二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000W #9132652 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000W是一种化学气相沉积（CVD）反应器，专门为高级记忆和逻辑器件研究和生产而设计。该反应堆采用石英室，设计坚固，具有常规和等离子体增强的CVD（PECVD）能力。反应堆内的压力和温度都受到精确控制，以获得最佳的加工环境。设备还配备了氮气净化能力，用于先进的工艺洞察。AMAT P5000W带有一个直观的用户界面，提供反应室压力和温度数据的实时显示。APPLIED MATERIALS P5000W还提供自动操作计量等高级功能,允许用户以最小的工作量执行各种常规系统检查。这也允许准确的过程重复性和可重复性。在先进的CVD反应堆内部有一个用于监测反应性物种的原位探测器以及原位温度和压力读数，其精度读数分别为0.1%、0.2%、0.3%和0.5%。该单元还包含各种高级工艺控制功能，包括多压力能力和自动设定点调整。P5000W的大腔室设计，由于可以达到的薄膜增长率极低，所以允许高吞吐量。利用快速热循环，AMAT/APPLIED MATERIALS P5000W的吞吐量可达到每小时1000晶圆以上。大腔室容量也使得大型晶片和非常规基板的运行，如SOI或蓝宝石。该反应器用于铜互连、钨塞层、接触切削、氧化物和氮化物钝化层等多种内存和逻辑装置应用。可用于铜互连或钨塞层工艺，极精确的温度、压力、工艺参数控制可达到<1%的水平。它还可以进行多种非常规的CVD工艺，包括氧化物和氮化物钝化层、接触削减和高长宽比沟槽的无接触沉积。最后，该反应堆经过设计，便于维护和清洁。腔室和组件易于取用，所需的工具通常随机器一起提供。此外,还可以通过扩展的数字通信功能与其他流程工具直接集成,从而提供无缝的工具控制,并实现最大程度的流程优化。