二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000W #9181306 待售

AMAT / APPLIED MATERIALS P5000W
ID: 9181306
WCVD System W,P-SiN Currently de-installed and warehoused.
AMAT/APPLICED MATERIALS P5000W是一种利用ICP-MS技术优化金属薄膜表面分析和沉积的反应器。这种高性能反应堆旨在提高材料在广泛应用中的性能。它具有独特的工作环境,可以促进各种基材的沉积过程。AMAT P5000W能够提供高效甚至覆盖的多种沉积方法。这使得它的使用者可以得到光滑而均匀的表面沉积。APPLIED MATERIALS P5000W包含一系列优化的硬件组件,如专业燃烧源(PCS)和高频直流磁控管反应器(HFM),以有效控制金属薄膜的沉积过程。PCS在等离子体沉积过程中使金属离子长期稳定地暴露于基质,而HFM提供了一种强大、高效和均匀的沉积,有助于生产均匀的薄膜。这两种组分都限制了反应物外溢,提高了整体反应速度。P5000W还配备了多功能隔热管(HST),控制温度和气体流向基板,以获得精确和可重复的结果。此外,还包括基本压力控制器系统,用于调节和维持工作室内的压力。AMAT/APPLIED MATERIALS P5000W还由测距仪(RF)组成,该测距仪与激光风速计(LA)配合工作,监测离子电流密度,以提供准确的气体流量和最佳的基板条件。AMAT P5000W反应堆的先进工程和技术相结合,可以加快和更精确的沉积过程,同时提供一个工作环境,减少执行任务所需的时间,并提高所产生材料的质量和稳定性。此外,它的自动化操作为用户提供了更大的灵活性和准确性,同时允许从设计到生产的更快过渡。通过提供高效和一致的结果相结合,APPLIED MATERIALS P5000W使沉积过程更有效率和更具成本效益。
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