二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000W #9254064 待售
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ID: 9254064
晶圆大小: 6"
优质的: 1996
Systems, 6"
(3) Chambers
Wafer loading type
Processing type: W-Plug
Exhaust:
Main system: NW 50
Gas line:
Unit / Maker / Model
Chamber A:
MFC1 / STEC / SEC-4400
MFC2 / STEC / SEC-4400
MFC3 / UNIT / UFC-8160
MFC4 / UNIT / UFC-1660
MFC5 / STEC / SEC-4400
MFC6 / UNIT / UFC-1661
MFC7 / UNIT / UFC-1660
MFC8 / UNIT / UFC-1660
Chamber B:
MFC1 / STEC / SEC-4400
MFC2 / STEC / SEC-4400
MFC3 / UNIT / UFC-1660
MFC4 / UNIT / UFC-1660
MFC5 / STEC / SEC-4400
MFC6 / UNIT / UFC-1100
MFC7 / UNIT / UFC-1260A
MFC8 / UNIT / UFC-1660
Chamber D:
MFC1 / STEC / SEC-7440
MFC2 / STEC / SEC-4400
MFC3 / UNIT / UFC-1660
MFC4 / STC / UFC-1660
MFC5 / STC / SEC-4400
MFC6 / UNIT / UFC-1660
MFC7 / UNIT / UFC-1660
MFC8 / UNIT / UFC-1660
OEM No marking transfer
Gauge:
Chamber / Maker / Model
Chamber A / MKS / 627A
Chamber B / MKS / 127AA
Chamber D / MKS / 624A
RF Unit:
Chamber / Maker / Model / Unit
Chamber A, B and D / ENI / OEM-12B / Generator
Chamber A / B / D / OEM / 0010-09750R / Matcher
Sub module:
Maker / Model / Unit
(3) EDWARDS / QDP40 / Dry pumps
EBARA / A30W / Dry pump
AMAT / APPLIED MATERIALS / AMAT0 / Heat exchanger
(2) UNISEM / UN2004A-HW / Scrubbers
Power supply: 208 VAC, 3 Phases, 50/60 Hz
1996 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000W反应堆，又称机场金属有机化学气相沉积设备，是一种用途广泛、可靠的工具，设计用于成批或成簇的先进半导体工艺。为了制造用于集成电路生产的复杂结构，它被用于在硅晶片上沉积薄薄的材料层。AMAT P5000W是一种高效的设备,可提供卓越的过程重复性和可靠性。APPLICED MATERIALS P5000W有一个自动化的一步载荷锁，可以将晶片直接放入反应室中。这消除了晶圆传输的需要，加快了製程週期的时间。腔室容积约为70升,工作温度范围介于-5˚C和+450˚C之间.通用的设计使系统可以用于各种过程，包括膜结构的单层和多层沉积。P5000W采用基于PC的机器人和全过程控制环境。它配备了一个独特的实时反馈单元，用于监控过程的结果。此外,AMAT/APPLIED MATERIALS P5000W针对低温操作进行了优化,非常适合复杂的工艺配方。先进的控制机器提供完整的统计过程控制、快速诊断、最优调谐和精确的研究-化学控制能力。AMAT P5000W具有Turbo Source技术,可以对厚度不同的层进行精确沉积。这使得极均匀的薄膜得以沉积，从而提高了横截面均匀性和图桉化的可重复性。APPLICED MATERIALS P5000W还设有一个三基板校准站，旨在提供精确和可重复的基板厚度。P5000W反应堆是为先进的半导体沉积过程而设计的一种强大而可靠的工具。它具有自动化的一步加载锁、基于PC的机器人和过程控制环境、Turbo Source技术、三基板校准站等多种特点,使其具有卓越的工艺可重复性和可靠性,可获得最佳的总体拥有成本。
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