二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Producer CVD #9006107 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS Producer CVD（等离子体增强化学气相沉积）是一种用于制造各种材料薄膜的反应器。该反应堆常用于生产半导体器件、集成电路和显示器。它使多晶硅、无定形硅、氧化物、氮化物和金属等多种薄膜得以沉积。AMAT Producer CVD使用两种不同的等离子体源运行，射频（RF）和直流电（DC）。在射频源中，射频电场用于激发气体分子产生等离子体。在直流源中，利用直流电场使燃料气体中的电子粒子通电，形成热电子等离子体。这种等离子体在气相中产生化学反应，然后可以将所需的材料沉积到室内的底物上。应用材料生产商CVD由各种组件组成，包括一个腔室、反应物源、气体输送设备、过程控制单元和真空系统。腔室为圆柱形空间，腔室顶部有唇形电极，腔室底部有基板支架。反应物源由牺牲棒、蒸发/溅射源或阵阵淋浴头电极组成，通常可用来蚀刻基板表面。气体输送装置从源向腔室提供入口气体，然后由腔室中的两个等离子体源激发成等离子体。根据要加工的配方，气体的数量从一到十不等。流程控制单元提供高级控制和监控,以确保流程重现。真空机提供产生等离子体所需的真空压力。综上所述，Producer CVD反应堆使用RF或DC等离子体源结合各种反应物，将薄膜沉积在基板上。它由一个腔室、一个反应物源、气体输送工具、过程控制单元和真空资产组成。这种反应器通常用于生产半导体器件和集成电路。