二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Producer GT SiCoNi #9375200 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS Producer GT SiCoNi是一种先进、高效的化学气相沉积（CVD）室，设计用于半导体工业。该反应器在CVD室的加工表面上利用了一种专利的多孔SiCoNi（碳化硅镍）涂层，以提高均匀性，提高吞吐量，减少CMP负载。获得专利的SiCoNi涂层提供了独特的化学、热和机械性能组合。具有良好的沉积均匀性，可实现精确的工艺控制和可重复性。其热稳定性也允许增强CVD工艺稳定性。高耐热性和化学性相结合，也可改善清洁过程中的CMP载荷。AMAT Producer GT SiCoNi CVD腔室配备了高温脉冲CMP加载能力，允许在清洁过程中卓越的CMP加载和质量控制。它还具有一个低流量的高性能Cooljet™清洁系统，它能迅速清除室内的污染物并保持室内的完整性。APPLIED MATERIALS Producer GT SiCoNi配备了多种工艺气体，包括氮气和氧气，以提供最佳的工艺兼容性。它具有低能硅喷射器，可以降低蚀刻温度，改善工艺控制和稳定性。为提高工艺参数的稳定性和可重复性，该反应器还采用双区热墙设计，用于均匀的温度控制。生产商GT SiCoNi能够使用全自动负载锁处理200 mm大小的晶片,方便晶片装卸。其先进的温度控制系统在长期生产过程中保证了可靠的工艺稳定性，也便于工艺设置。此外，反应堆设计符合最严格的安全标准，确保工业环境下的最大安全。AMAT/APPLIED MATERIALS Producer GT SiCoNi是一款多功能的CVD腔室，旨在满足半导体行业的高质量和性能预期。其先进的工艺能力，加上先进的SiCoNi涂层，提供卓越的工艺控制和均匀性。它的多功能性和性能使其成为最具挑战性的半导体工艺的理想解决方桉。