二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Producer GT #9198996 待售
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ID: 9198996
晶圆大小: 12"
优质的: 2008
CVD System, 12"
Number of loadports: 4
Factory interface model: 5.4
AMHS Configuration: OHT
Chamber A:
SACVD Twin
Process: HARP USG
RPS Type: 6 Litre
Heater type/Part number: Vacuum chuck
Process kit type: HARP kit
Chamber B:
SACVD Twin
Process: HARP USG
RPS Type: 6 Litre
Heater type/Part number: Vacuum chuck
Process kit type: HARP kit
Chamber C:
SACVD Twin
Process: HARP USG
RPS Type: 6 Litre
Heater type/Part number: Vacuum chuck
Process kit type: HARP kit
Computers:
FE Computer type: FES
FI Computer type: FIS
RT Computer type: CL7
Misc hardware:
FI Robot type: KAWASAKI Track
Buffer robot type: GT
Remote AC: 208V
Heat exchanger 1: Unisem
FI Robot blade type: Aluminum
Buffer robot blade type: Ceramic
LCF/Wafer detect: LCF
Roll around monitors: (2)
Ozone cabinet: Inusa
Number of ozone generators: 3 MKS
Gas panel configurations:
Gas box type: 1-1/8 C-Seal surfacemount
Stick 1: NF3 - 15000sccm
Stick 2: AR - 15000sccm
Stick 3: N2 - 5000sccm
Stick 4: N2 - 50000sccm
Stick 5: He - 30000sccm
Liquid 1: TEOS - 7g/min
2008 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Producer GT是一个高度先进的沉积系统，为沉积过程提供一系列可定制的解决方桉。该反应室包括一个完全灵活的源体系结构，允许沉积配方根据特定的客户需求量身定制。AMAT Producer GT旨在利用连续的网状沉积技术提供对基板温度、压力和流速的精确控制。APPLICED MATERIALS Producer GT反应室的主要结构由一个高品质的金属真空室组成，能够支撑各种各样的底物尺寸和形状。位于真空室内的是该源，由一台大功率射频发电机和熔炉组成。生产反应堆还采用具有自动对准能力的先进扫描技术，提供精确控制和均匀沉积。这样可以确保所有基板的覆盖范围一致,无论形状和尺寸如何。射频发生器和柚子连接到一个沉积室，利用CVD源生产铝化膜。CVD源提供了一个高度丰富的形成膜气体的来源，使得极薄的膜可以一次沉积在多个基板上。此外，沉积室能够得到极低的基质温度，高达20oC。这样可以提高薄膜质量，并有可能产生高长宽比沉积和降低接触阻力。为了最大限度地提高效率和生产力，Producer GT配备了一系列先进的工具。机载机械臂设计用于快速装卸基板,最大程度地减少过程之间的停机时间。反作用室还设有一个网络传输系统，一次可以装卸一整卷底物。这样可以提高吞吐量,并允许在一次运行中处理更大的批处理大小。总体而言,AMAT/APPLIED MATERIALS Producer GT是一种高度先进且可定制的解决方桉,可提供精确沉积和提高生产率。该反应室具有一系列先进技术，如自动扫描、CVD源、机器人臂和Web传输系统，使其能够根据特定的工艺要求量身定制。
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