二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Producer GT #9208937 待售
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ID: 9208937
晶圆大小: 12"
优质的: 2011
CVD System, 12"
Items: FI
FI Robot
FI Robot controller
Aligner
Cool station
FES
FIS
TCS/RT
FFU
Items: LL
LL Upper lifts
LL Upper lift drivers
LL Lower lifts
LL Lower lift drivers
LL Pump
LL Foreline
Items: BUFFER FX
Robot
FX Robot linkage (batwing/bridge)
Robot blades
Robot controller
LCF
Buffer pump
Buffer foreline
MF Controller
Chamber A- ETERNA FCVD
RPS
Upper lid stack (gas box, face plate, isolator)
Ceramic process kit
Heaters: Pedestal
Pin lifts
Pin lift driver
Heater lifts
Heater lift drivers
Ch FL, TV, Iso valve
Gas panel (MFC, LFM intact)
Chamber controller
Chamber B- SACVD
RPS
Upper lid stack (gas box, face plate, isolator)
Ceramic process kit
Heaters
RF Filters
Pin lifts
Pin lift driver
Heater lifts
Heater lift drivers
Ch FL, TV, Iso valve
Gas panel (MFC, LFM intact)
Chamber controller
Chamber C- ETERNA FCVD
RPS
Upper lid stack (gas box, face plate, Isolator)
Ceramic process kit
Heaters: Pedestal
RF filters: N/A Pin lifts
Pin lift driver
Heater lifts
Heater lift drivers
Ch FL, TV, Iso valve
Gas panel (MFC, LFM intact)
Chamber controller
2011 vintage.
AMAT/APPLICED MATERIALS Producer GT是一种高通量、单室、水平、封闭式的反应器，用于生产单晶和多晶半导体材料。该设备具有较高的吞吐量能力,从而缩短了周期时间,并提高了材料产量。该系统包括一个先进的图形用户界面，允许快速和容易的参数控制。它还包括一个涡轮泵浦，水平支撑腔室为最佳的热性能和均匀性。AMAT Producer GT包括一个集成的光源crucible与一个先进的温度控制单元完美晶体生长。一个自动基板支架允许精确的基板定位和控制基板的运动。它还有一个先进的用于更精确温度读数的高温计，以及一个低压原位气体喷射机，用于最佳生长条件。应用材料生产商GT尺寸方便，便于在标准半导体制造实验室安装和操作。利用高性能磁体为均匀晶体生长提供最优均匀的磁场强度。它还配备了动态冷却工具，以减少腔室的热循环，减少污染物沉积。此外,该资产还包括用于确保晶体均匀生长的高级基板边缘剖面分析功能,以及用于降低热应力的集成晶圆冷却模型。总体而言，Producer GT是一种先进、超快的半导体材料生产反应堆，提供无与伦比的性能、可靠性和效率。凭借其先进的用户界面、坚固的温度控制设备、集成的光源合约、动态冷却系统以及先进的晶圆冷却单元，这款高性能反应堆是最先进的半导体生产的理想选择。
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