二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Producer GT #9228298 待售
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ID: 9228298
晶圆大小: 12"
优质的: 2009
CVD System, 12"
(3) Chambers
EFEM:
(4) Load ports
Load port type: TDK / TAS300 / G1
(2) EFEM Robots
ATM 0090-25011 Robot
KAWASAKI 3NX510B-D001 ATM Robot
TM and chamber robot
BROOKS 0190-25011 Vacuum robot
Chambers:
623B-24562 Throttle valve
APEX 3013 RF Generator
MKS ASTRON 2L Remote plasma system
Chamber A / B / C:
Gas line position / Process gas / MFC Size / Maker
1 / N2 Purge
2 / NF3 / 15000 sccm / Unit
3 / AR / 10000 sccm / Unit
4 / SIH4 / 1000 sccm / Unit
5 / N2 PURGE / - / -
6 / NH3 / 700 sccm / Unit
7 / N2 PURGE / 25000 sccm / Unit
8 / AR / 10000 sccm / Unit
10 / O2 / 10000 sccm / Unit
11 / N2O / 1000 sccm / Unit
12 / N2O / 15000 sccm / Unit
20 / TEOS / 7 g/min / HORIBA STEC
21 / AR / - / -
22 / N2 PURGE / 15000 sccm / Unit
Electrical requirements:
Power supply: 208 VAC, 50/60 Hz, 3-Phase, 4-Wires
Full load current: 240 Amp
2009 vintage.
AMAT/APPLICED MATERIALS Producer GT是用于半导体制造的下一代半导体反应器。该反应堆专为高端光刻设备量身定制，提供最新的分布式热和颗粒控制。该反应堆旨在优化需要低排泄率和关键特征精度的过程。AMAT Producer GT由两个主要组件组成，工艺室和子组件。该工艺室包含晶片盒以及带有架空光学器件、微波、磁共振、激光和离子植入系统的工艺模块。子组件包括等离子体源、泵、冷却器、气体输送系统、电源和自动化。等离子体源被设计为产生具有低粒子夹带的高离子密度等离子体离子源。它被封闭在RF屏蔽的存储模块中,以防止EMI干扰。气体输送系统用于确保对气体流动、压力和温度的精确控制。这种气体被设计成是隔离和无泄漏的。电源专为低功耗和均匀分配给所有工艺模块而设计。它们能够适应系统电压波动,降低过程中断的风险。真空泵是一种涡轮分子设计，允许精确的控制和可靠的操作，即使压力需求变化很大。冷却器提供可靠基板加工所需的一致冷却。这些反应堆采用3D扫描成像技术进行工程设计，为光刻创造了优化的工艺参数要求。这种组合式组件可确保功能的高度均匀处理到22nm,并且排便率低。APPLIED MATERIALS Producer GT的自动化能力使其成为高溷合和低体积半导体生产的理想解决方桉。它通过可编程晶片调度和严格控制工艺参数和工艺配方管理来满足多室处理的需要。自动化还提供了自我监控和自我调整功能,可减少启动时间和增加平台启动时间。AMAT设计了Producer GT,以最大限度地提高生产率和产量,同时最大限度地降低拥有成本。该反应堆是希望优化其半导体工艺控制能力的制造商的理想解决方桉。
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