二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Producer GT #9231995 待售
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ID: 9231995
晶圆大小: 12"
优质的: 2008
System, 12"
(3) Chambers
(4) Load ports
Factory interface: 5.4
AMHS Configuration: OHT
FE Computer type: FES
FI Computer type: FIS
RT Computer type: CL7
Misc hardware:
FI Robot type: KAWASAKI Track
FI Robot blade type: Aluminum
LCF
Buffer robot type: GT
Buffer robot blade type: Ceramic
(2) Roll around monitors
Remote AC: 208 V
Ozone cabinet: INUSA
Heat exchanger 1: UNISEM
(3) MKS Ozone generators
Chamber A, B and C:
Type: SACVD Twin
Process: HARP USG
RPS Type: 6 Litres
Heater type: Vacuum chuck
Gas panel configurations:
Gas box type / 1-1/8 C-Seal surfacemount
Stick 1 / NF3 - 15000 sccm
Stick 2 / AR - 15000 sccm
Stick 3 / N2 - 5000s ccm
Stick 4 / N2 - 50000 sccm
Stick 5 / He - 30000 sccm
Liquid 1 / TEOS - 7 g/min
2008 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Producer GT是一种热化学气相沉积（CVD）薄膜沉积反应器，通常用于半导体工业中，将各层材料沉积到晶片上，如氧化物、多晶硅和金属。该工具利用冷壁石英工艺室控制沉积环境温度，并利用气体注入设备将反应物气体分散到反应室中。该系统主要由四个部分组成：加工室、气体注入单元、晶圆输送机和电动工具。该工艺室是一个大型真空室，具有HEPA过滤资产，有助于过滤出空气中的颗粒。它还含有石英管，有助于保持工艺温度的调节。气体注入模型负责提供精确数量的反应物气体，并控制引入工艺室的速率。晶圆运输设备负责将晶圆装入加工室，并在腔内移动晶圆。系统设计的最大每晶片吞吐量为每小时200晶片。最后，由计算机控制的电源单元负责控制工序室的功率水平。这一点很重要，因为不同的薄膜需要不同的功率水平才能提供正确的沉积。该机还具有自动动力补偿功能，有助于保持不同材料更一致的沉积。最后,AMAT Producer GT是一种复杂的半导体工业薄膜沉积CVD工具.它具有许多不同的组件，这些组件可以协同工作，使各种薄膜能够精确地沉积到晶片上。该工具旨在提供每小时200个晶圆的最大吞吐量,并且能够自动补偿沉积不同薄膜时功率的变化。这有助于保持一致和高质量的沉积。
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