二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Producer GT #9294490 待售
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ID: 9294490
CVD System, 12"
With (2) twin chambers
Wafer shape: SNNF
Local Center Finder (LCF)
Transfer robot type: GT
Load lock chamber pump type: EPX TWIN 180L
Hard Disk Drive (HDD)
(2) Heaters of FCVD chamber missing
EFEM Chamber with FZ
MKS Astron ex BPSG Chamber
FCVD Chamber
Transfer chamber: 30 mm
Ozone rack
AC Distribution box
(4) Chillers:
THERMO FISHER SCIENTIFIC MX 500W D3
(2) SMC INR–498–012D–X007
SMC INR–496–002D–X007
System rack
(9) Boxes
Frame
PC
Monitor
SMIF/FI:
Type: 5.4
AMHS: OHT
Pre-alignment
Pass through and storage: 8-Slots wafer pass through
(2) Load ports (1 and 4 positions)
FI Controller type:
FE, FI and RT Computer type: IBM 306M
Sub components:
O3 Generator type: MKS ASTEX
Ozone cabinet: INUSA
Heat exchanger type: SMC H2000
Heat exchanger type for O3: MX500
(2) Chambers:
Chamber A:
Type: FCVD Twin
Process: F-Oxide
Heater lift driver: 0190-13840
Isolation (Gate) valve: Nor Cal 041010-1
Throttle valve: MKS T3Bi
RPS Type: MKS Astron e/ex
Manometer: 5 Torr / 100 Torr
Chamber B:
Type: SACVD Twin
Process: HARP USG
Heater lift driver: 1080-00126
Isolation (Gate) valve: Nor Cal 021010-1
Throttle valve: MKS 683
RPS Type: MKS Astron EX
Manometer: 20 Torr / 1000 Torr
Process chamber:
Gas box
Face plate
Blocker plate
Input manifold
Output manifold
Teflon manifold
Ceramic isolator
Heater
RF Filter
Pin lift driver
AC Box
Gas delivery:
Gas pallet type
Regulator
Transducer
Gas pallet configuration:
Chamber A:
Stick position / Gas type / Volume
1 / N2 Purge / -
2 / NF3 / 10 SLM
3 / AR / 10 SLM
4 / N2 / 200 SCCM
5 / O2 / 2.5 SLM
6 / N2 Purge / -
7 / Si3H9N / 1 L
9 / HE / 5 SLM
10 / N2 Purge / -
11 / NH3 / 700 SCCM
12 / NH3 / 1 SLM
14 / H2O / 1g/min
15 / AR / 5 SLM
21 / HE / 5 SLM
22 / N2 Purge / -
Chamber B:
Stick position / Gas type / Volume
1 / N2 Purge / -
2 / NF3 / 7 SLM
3 / AR / 15 SLM
4 / N2 / 5 SLM
5 / N2 / 10 SLM
6 / O3 Out / -
7 / O3 In / -
8 / O2 / 30 SLM
9 / N2 / 30 SLM
10 / H2O In / 10g/min
11 / H2O Out / -
14 / TEOS / 7g/min
15 / N2 / 50 SLM
21 / HE / 3 SLM
22 / N2 Purge / -
Power supply:
Remote AC line: 208 V, 50/60 Hz
Remote UPS
2009 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Producer GT是一种将材料或材料组合的薄膜沉积到基板上的工具。设备由三室反应堆、一系列泵和控制器以及先进的热管理系统组成。这个完整的单元被设计为允许材料的精确沉积到基板上。反应堆的主腔室容纳底物，而其他两个较小的腔室容纳待沉积的材料。机器使用多种技术将材料沉积到基板上，如化学气相沉积（CVD）、物理气相沉积（PVD）和溅射。强大的热管理工具允许每种沉积技术对材料进行适当的加热和冷却。底物与要沉积的材料一起装入反应堆的主沉积室。材料加热到适当的温度，然后通过较小的腔室送入腔室。材料分解产生的气体和蒸气通过排气线被抽走。当蒸气和气体移开时，基板会慢慢覆盖在所需的材料组合薄膜中。资产是高度可定制的，允许用户调整温度、压力和气体流量等参数，以微调其沉积材料。AMAT Producer GT的可自定义性使用户能够在一系列基板上实现材料的精确沉积，从而能够制造复杂的电子设备。应用材料生产商GT是一种设计用于使材料薄膜沉积简单精确的多功能工具。生产GT具有可靠的热管理模型、可定制的参数和广泛的沉积技术，是现代电子制造的可靠有效工具。
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