二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Producer GT3 #293610775 待售
看起来这件物品已经卖了。检查下面的类似产品或与我们联系,我们经验丰富的团队将为您找到它。
单击可缩放
已售出
ID: 293610775
晶圆大小: 12"
优质的: 2015
PECVD System, 12"
Process: TEOS
(4) SELOP Load ports
FOUP: (25) Wafers
FX Robot
0200-08346 Robot blades
0090-04659 Load lock preheater
9992-00594 Slit valve door
EBARA ESR 80WN MF Pump
Laod lock pump: EPX 180 Twin dry vacuum pump (P/N: 3620-00517)
0190-37371 Diffuser
KASHIYAMA SDE1203B Process pump
Chamber:
Type: PE Silane
0920-00139 RF Generator
0190-08677 RF Generator
0010-36734 Heater
9992-00594 Slit valve
0010-42371 RF Filter
0190-32100 Foreline TV
3870-06775 Foreline ISO
0040-53688 Gas box
0040-95475 Faceplate
0021-26544 Blocker
(2) Pumping liner sides (P/N: 0200-02407; 0200-02408)
0200-06758 Liner ceramic top
0200-02973 Liner ceramic middle
0200-02974 Liner ceramic bottom
0021-27290 Ceramic isolator
0200-03314 Lift pins
0200-03312 Lift hoop
(2) Sapcer sides (P/N: 0021-24181; 0021-24182)
0190-40602 RPS
Gas box:
Line / Gas / Size
3 / TEOS-1 / 7000
4 / TEOS-2 / 7000
6 / NF3 / 5000
8 / Ar / 10000
9 / He-TEOS / 15000
12 / O2 / 15000
18 / Purge02 / -
19 / Purge03 / -
Liquid line temperature:
TEOS-1, 2 Injection: 150°
Heated line-2, 3, 4, 5, 6, 7: 120°
Does not include Hard Disk Drive (HDD)
Power supply: 208 VAC, 3-Phase
2015 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Producer GT3是一种先进的热化学气相沉积反应器，设备齐全，可帮助用户满足其底层沉积需求。这种最先进的沉积设备能够生产出多种材料的高质量薄膜，包括单晶硅、、碳、金刚石。它具有精确的过程控制、各种各样的热过程以及严格的均匀性控制功能。AMAT Producer GT3的设计采用直径为10厘米、高度为20厘米的工艺室，使其高度可定制，非常适合广泛的应用。高效的热传递设备有助于保持基板温度一致，这对于实现优质膜沉积至关重要。该反应堆还提供了一系列可预编程的过程，允许用户细化其薄膜沉积，以实现最终控制。为了确保可靠和可重复的结果,GT3在基板平面内加入了快速热退火系统,以最大程度地减少材料层之间的有害应力。这一反应堆单元还配备了AMAT专利的电弧控制技术，其设计目的是在比典型的CVD工艺更低的温度下实现优越的沉积。APPLIED MATERIALS PRODUCER GT3除了用于先进的基底沉积外,还可容纳多种材料,包括用于功率半导体器件开发的III-V材料。该机还具有最先进的电极偏置控制功能，这对于开发高性能材料至关重要。GT3中存在的宽离子源允许同时沉积两种不同的材料。这在电气设备的生产中特别有用，在电气设备中，两种材料的组合可以带来优异的效果。此外，反应堆装有加热导体角整流齿轮，允许用户精确操纵基板的加热阻抗。生产商GT3是一种先进的化学气相沉积反应器，提供可靠的性能和众多可定制的能力。GT3具有广泛的热工程、先进的电极和严密的均匀性控制，是寻求优质膜沉积者的理想选择。
还没有评论