二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Producer GT3 #293610776 待售
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已售出
ID: 293610776
晶圆大小: 12"
优质的: 2015
PECVD System, 12"
Process: TEOS
(4) SELOP Load ports
FOUP: (25) Wafers
FX Robot
0200-08346 Robot blades
0090-04659 Load lock preheater
9992-00594 Slit valve door
EBARA ESR 80WN MF Pump
Laod lock pump: EPX 180 Twin dry vacuum pump (P/N: 3620-00517)
0190-37371 Diffuser
KASHIYAMA SDE1203B Process pump
Chamber:
Type: PE Silane
0920-00139 RF Generator
0190-08677 RF Generator
0010-36734 Heater
9992-00594 Slit valve
0010-42371 RF Filter
0190-32100 Foreline TV
3870-06775 Foreline ISO
0040-53688 Gas box
0040-95475 Faceplate
0021-26544 Blocker
(2) Pumping liner sides (P/N: 0200-02407; 0200-02408)
0200-06758 Liner ceramic top
0200-02973 Liner ceramic middle
0200-02974 Liner ceramic bottom
0021-27290 Ceramic isolator
0200-03314 Lift pins
0200-03312 Lift hoop
(2) Sapcer sides (P/N: 0021-24181; 0021-24182)
0190-40602 RPS
Gas box:
Line / Gas / Size
3 / TEOS-1 / 7000
4 / TEOS-2 / 7000
6 / NF3 / 5000
8 / Ar / 10000
9 / He-TEOS / 15000
12 / O2 / 15000
18 / Purge02 / -
19 / Purge03 / -
Liquid line temperature:
TEOS-1, 2 Injection: 150°
Heated line-2, 3, 4, 5, 6, 7: 120°
Does not include Hard Disk Drive (HDD)
Power supply: 208 VAC, 3-Phase
2015 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Producer GT3是一种领先的PECVD（等离子增强化学气相沉积）反应器。广泛应用于半导体工业中，用于将介电层和金属层沉积到硅片上。它也被用于太阳能光伏、医疗设备和先进电子等其他应用。AMAT Producer GT3是一款高效、通用的工具。它采用模块化设计，有两个腔室，一个源腔室和一个反作用室。这种布置将前体气体和等离子体处理与沉积过程分开。该反应堆能够同时进行低压和大气压过程化学处理，从而允许各种沉积速率和等离子体条件。其设计符合温度、压力和气流监测，确保精确控制和一致的结果。应用材料生产商GT3配备了高密度磁控管和介电冷却等离子体源。这种先进的设计提供了改进的均匀性、重复性和沉积质量。此外，它还赋予反应堆处理大型基材尺寸的能力。高温陶瓷衬里和顶置加热器产生高质量的氮化物和氧化物，使其成为深紫外线和高Q介电系统的绝佳选择。它还为敏感金属和其他电子体系结构提供了干净的操作环境。生产者GT3能够进行若干沉积过程。它用于广泛的过程，包括金属化、CVD、PVD（物理气相沉积）、ALD（原子层沉积）和MOCVD（金属有机化学气相沉积）。该反应器能够达到10 nm到5微米以上的薄膜厚度，是先进设备制造的绝佳选择。AMAT/APPLIED MATERIALS Producer GT3还能够进行广泛的热处理，包括快速热退火和快速热处理。提高光刻胶的生产效率和工艺可靠性,是光刻胶退火的理想选择.此外，它的高温性能保证了良好的晶圆接触和均匀的薄膜生长。最后,AMAT Producer GT3 PECVD反应器是一种功能强大、用途广泛的工具.它具有广泛的应用，包括电介质和金属层的沉积以及其他一些先进的工艺。它是一个高效的工具，提供精确的控制和一致的结果。它是制造先进电子设备的绝佳选择。
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