二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Producer III #9070340 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS PRODUCER III反应器是一种化学气相沉积（CVD）系统，设计用于半导体和其他装置，制造。它是使用各种有机、金属和陶瓷前体在基板上生产薄膜沉积层的理想选择。AMAT Producer III采用垂直升力敏感器平台设计，允许多种工艺配置和基板长达200毫米。基板加热是通过强大的快速启动加热器实现的。该反应堆的基本压力为1x10-6 Torr，能够达到高达5 Torr的高压，以达到最佳增长率。还包括一个内置的数字微波能源。这种双频源可以产生灵活的功率设置，从而在产生的薄膜中实现精确的掺杂控制，更大的表面积覆盖，并提高晶体质量。数字源的设计目的是降低馈电连接的敏感性并实现高效的薄膜增长。为了确保均匀的沉积速率和薄膜厚度,APPLIED MATERIALS Producer III还设计了双频脉冲源,能够提供45 MHz信号和270 kHz等离子体源,以实现最佳均匀性。在流程自动化方面，Producer III包含一个具有专用软件的事件控制系统（ECS），允许用户设计和集成一个自动化流程序列。ECS监视温度、压力和隔离级别,并提供控制和日志记录功能,包括配方执行、逐步流程控制和配方存储。AMAT/APPLIED MATERIALS Producer III还包含一个用于安全晶圆装卸的倾斜反应器。反应堆平台中的almorail CAE便于样品转移，可调节以适应不同的基材尺寸。为了确保最大限度的安全，AMAT Producer III还配备了各种系统内保障措施。这些包括压力感应、排气和扼流阀、电机驱动系统以及氮气和氙气清除系统。这些系统旨在维持最佳工作条件并保护操作员和周围环境。