二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Producer III #9238404 待售
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ID: 9238404
优质的: 2000
CVD System, 8"
(3) Twin chambers
Platform: Producer S
Wafer shape: SNNF
Mainframe:
Buffer robot type: VHP
FI Robot type: Manual
Buffer robot blade: Standard blade
RYGB Status light tower
Front end type: Manual type front end
PRI BROOKS ABM407 Front end robot
VHP Buffer robot
Transfer pump: IPX Pump
Chamber slit valve / LL Door: VAT
L/L Gauge: MKS Stand
Hard disk: Stand
Floppy disk: 1.44 M
Chamber configuration:
Chamber A, B, C: Producer S BPSG Twin
Chamber parts:
Gas feedthrough assy
Gas box
Face-plate
Pressure gauge: MKS 20 Torr / MKS1000 Torr
RF Power
RPS Type: (MKS ASTeX)
Chiller: Steel-head 1
Ozone rack
Gas panel: BPSG
Vacuum system
ISO / Throttle valve: C-PLUG
Includes:
Open cassette type
VHP Robot
IPX Pump
(3) Oxide chambers
Loadlock configuration:
Cassette type: 200 mm
Fast vent option
Power supply:
Line voltage: 208 V
Full load current: 300 Amp
Frequency: 50/60 Hz
CE Marked
2000 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS PRODUCER III是一种反应器，设计用于通过化学气相沉积（CVD）蚀刻和沉积材料，用于生产III-V和石英半导体晶片。它是一种大型机器，工作室长25.6厘米（10英寸）。反应器包含两个主要腔室：源和等离子体，它们以所需的厚度沉积物料层。源室最多装有四种化学前体，包含一个气泡、一个加热元件、一个分销商、一个淋浴头和一个射频发生器。等离子体腔室包含高频等离子体，这些等离子体是通过放置在腔室顶部的同轴天线产生的。然后将输出气体作为均匀、稳定的蒸气过滤并通过淋浴头泵送。粒子随后与晶片表面碰撞，沉积所需的材料。AMAT Producer III使用多维工艺映射来实现晶圆或层厚度蚀刻速率的精确控制。它有一个控制系统来启用可重复的蚀刻过程，并且可以精确修改以满足特定的客户要求。该反应器的设计具有批量和单片加工能力。腔室气闸使晶片易于装卸，从而提高了生产率。此外，APPLIED MATERIALS Producer III已经装备了全面的保护系统，以确保安全运行。其中包括易燃气体检测、低温监测和紧急关闭系统。最后，生产三号是一种高效可靠的用于蚀刻和材料沉积的反应器。它利用多维工艺映射来确保对蚀刻速率和层厚的精确控制。它是为批量和单片加工能力而设计的，具有全面的安全特性。该反应堆系统为生产III-V和石英半导体层提供了一致、高质量的结果。
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