二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Producer S #9291526 待售
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ID: 9291526
优质的: 2005
CVD System, 8"
(2) PECVD SiN
PECVD TEOS
(3) Twin chambers
Wafer shape: SNNF
No SMIF interface
Chamber:
A twin:
PE OX
SIN
ARC
APF
B twin:
PE OX
TEOS
SIN
ARC
C twin:
PE OX
SIN
ARC
APF
Chamber A:
Single frequency
Manometer: 10/100 Torr
Clean type (RPC): ASTEX
No DPA
Chamber B:
Single frequency
Manometer: 10/100 Torr
Clean type (RPC): ASTEX
No DPA
Chamber C:
Single frequency
Manometer: 10/100 Torr
Clean type (RPC): ASTEX
No DPA
System monitors: Through the wall
Mainframe
Mainframe type: Shrinkage
Robot type: Dual VHP
Load cassette: Manual (2) cassettes
No SMIF
VME Racks:
SBC
VGA
MEI1
MEI2
I/O Expan
Monitor
Floppy Disk Drive (FDD)
No Hard Disk Drive (HDD)
Gas delivery:
MFC Type: AERA D980 / BROOKS 6256S
FUJIKIN 5 Ra Max valves
Transducer: MKS With display
Regulators: PARKER
Single Line Drop (SLD)
SLD Gas line feeds: Top feed
Gas pallet:
Chamber A:
Make / Model / Size / Gas
BROOKS / 6256s / 2 SLPM / O2
AERA / FC-D980C / 1 SLM / SiF4
BROOKS / 6256s / 10 SLPM / N2O
BROOKS / 6256s / 400 SCCM / NH3
BROOKS / 6256s / 10 SLPM / N2
BROOKS / 6256s / 500 SCCM / SH4
BROOKS / 6256s / 2 SLPM / (CH3)3SiH
BROOKS / 6256s / 3 SLPM / He
BROOKS / 6256s / 3 SLPM / NF3
BROOKS / 6256s / 5 SLPM / Ar
Chamber B:
AERA / FC-D981C / 20 SLM / N2O
BROOKS / 6256s / 500 SCCM / N2O
BROOKS / 6256s / 5 SLPM / O2
BROOKS / 6256s / 200 SCCM / SIF4
MYKROLIS / FC-2902MEP-T / 500 SCCM / SH4
BROOKS / 6256s / 10 SLPM / N2
BROOKS / 6256s / 5 SLPM / He
AERA / FC-D981C / 400 SCCM / NH3
BROOKS / 6256s / 3 SLPM / NF3
BROOKS / 6256s / 5 SLPM / Ar
HORIBA / 4 g/min / TEOS
Chamber C:
BROOKS / 6256s / 2 SLPM / O2
BROOKS / 6256s / 200 SCCM / SiF4
AERA / FC-D980C / 20SLM / N2O
BROOKS / 6256s / 400 SCCM / NH3
BROOKS / 6256s / 10 SLPM / N2
BROOKS / 6256s / 500 SCCM / SH4
BROOKS / 6256s / 2 SLPM / (CH3)3SiH
BROOKS / 6256s / 3 SLPM / He
BROOKS / 6256s / 2 SLPM / NF3
BROOKS / 6256s / 5 SLPM / Ar
Electrical requirements:
Line frequency: 50/60 Hz
Line voltage: 200/208 V
Line amperage: 240 A
2005 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Producer S是一种先进的工艺室设备，用于制造集成电路和其他半导体元件。它是一种高温化学气相沉积（CVD）反应器，允许生产大量内置电子产品。AMAT PRODUCERS是一个多功能系统，适用于一系列的后处理应用，包括CVD、原子层沉积（ALD）和物理气相沉积（PVD）。应用材料生产商-S具有对称的陶瓷室设计,为聚合物、氧化物和金属的沉积创造了理想的环境。它可以在氮气或氧气环境中在高达1000 °C的温度下操作，腔室设计用于均匀的薄膜厚度和热控制。该室还有一个集成的微波等离子体源，其设计目的是保持被沉积薄膜的质量和一致性。AMAT Producer S配备了一个机器人化的终端效应器单元和一组气体控制装置，这些装置可以精确地拨入所需的流程。多种原位诊断能力，包括光学发射光谱仪（OES），分析材料沉积，优化各种工艺中的薄膜性能。另外一个有角度的基板加热器的选项是可方便薄膜具有更大的均匀性。所有组件都安装在一个盘柜中,可以通过模块化设计进行访问,从而实现快速高效的维护。该机还配备了直观的软件和用户友好的功能。它便于访问实时流程数据、预测建模和流程优化功能。操作参数可以快速修改和调整，以达到预期的效果。集成软件还允许远程访问,从而提高了灵活性和监控能力。AMAT/APPLIED MATERIALS PRODUCER-S是一种强大且功能强大的CVD工具,可为一系列后处理应用程序提供卓越的质量和高吞吐量。其对称的陶瓷室设计使聚合物、氧化物和金属均匀沉积，为高温化学气相沉积过程提供受控环境。改进的气体溷合能力和多种现场诊断确保了材料沉积的一致性和良好的质量，有助于最大限度地减少废料损失。其模块化设计和直观的软件还提供实时监控，使其成为集成电路制造的理想选择。
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