二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Producer SE SACVD HARP #9282238 待售
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ID: 9282238
晶圆大小: 12"
SACVD System, 12"
Chamber A and B:
Chamber type: SACVD, Oxide BPSG
Gas configuration (SCCM): MFC
O2 (30000)
TEB (1000)
TEOS (4000)
TEPO (500)
NF3 (5000)
N2 (5000)
AR (5000)
O3 (30000)
AR (5000)
N2-Carrier (30000)
He-Carrier (30000)
RF RPS: 400 kHz
Maximum: 10 kW
Does not include Hard Disk Drive (HDD).
AMAT/APPLIED MATERIALS Producer SE SACVD HARP是一种专门的低压生产反应堆。该反应堆主要用于形成单壁碳纳米管。与传统的化学气相沉积(CVD)反应堆相比,它具有显着的优势,使SWNT的增长速度更快,直径分布更窄。反应堆由石英管组成,石英管有三个区----一个工作区、一个种子区和一个阳极区。石英管与氮气保持在惰性环境中,以防止样品氧化。在种子区,为SWNTs的生长而形成种子。种子区被控制在比其他区更低的压力下。这使得种子能够在过程的第一部分形成。工区是反应的主要部位,受到最高温度和压力。在该区,纳米管在催化反应的存在下生长。在阳极区,一些反应物作为蒸发层引入。该层对于纳米管的形成是必不可少的。为了提供完整的工艺控制,AMAT Producer SE SACVD HARP拥有先进的温度控制设备.这样可以精确控制过程中的加热和冷却阶段。它还有一个精密的发电机系统,对反应中使用的反应物数量提供精确的控制。反应堆的软件界面包括一个直观的用户引导单元。这有助于建立和维护机器。强大的图形可视化工具还使用户能够跟踪反应过程中的进展。应用材料生产商SE SACVD HARP比传统的CVD反应堆具有广泛的优势。它为纳米管提供了更高的增长率和更窄的直径分布。温度控制工具和发电机设备提供的精确控制确保了每次进行反应时纳米管的可靠增长。用户指导模型和图形可视化工具有助于使反应过程更易于设置和监控。总体而言,生产商SE SACVD HARP是那些希望生产SWNT的人的高效和可靠的反应堆。
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