二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Producer SE #9204008 待售
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ID: 9204008
晶圆大小: 12"
优质的: 2006
Twin chamber, 12"
Process: APF
Major part:
RPS: MKS FI80131(Astron ex)
HF RF Generator: 0920-00107(Apex3013)
Ceramic heater: AIN
Gas panel: 1-1/8 C-Seal surface mount
AC box: 0195-01042
Heater lift driver: 1080-00126
Pin lift driver: 0190-13840
Manometer: 20T / 100T
Throttle valve: 683B-26033
ISO Valve: 99D0654
Process kit:
Top liner
Middle liner
Bottom liner
Pumping ring
Lift hoop
AL Spacer
Gas configuration:
Gas Size(sccm) MFC Filter Valve
Stick 1 02 15,000 UFC-8565C NAS Hamlet
Stick 2 AR 5,000 UFC-8565 NAS Hamlet
Stick 3 HE 5,000 UFC-8565C NAS Hamlet
Stick 4 C3H6 3,000 IFC-125 NAS Hamlet
Stick 5 N2 Purge NA NA Hamlet
Stick 7 N2 15,000 UFC-8565C NAS Hamlet
Stick 10 02 15,000 UFC-8565C NAS Hamlet
Stick 11 N2 Purge NA NA Hamlet
Stick 12 NF3 5,000 UFC-8565C NAS Hamlet
Stick 13 AR 10,000 UFC-8565C NAS Hamlett
Aluminum slit insert missing
Lift ring(Fixed type): Localized
2006 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Producer SE是一种先进的PECVD（等离子体增强化学气相沉积）反应器，设计用于生产耐化学和物理损伤的优质薄膜。该反应器具有沉积氮化物、氧化物、介电材料以及金刚石和非晶态材料薄膜的能力。它具有强大、稳定和准确的数字驱动器电源,能够精确控制沉积速率和均匀性。这些特性使得AMAT Producer SE成为生产用于多种应用的各种薄膜的理想选择。APPLIED MATERIALS Producer SE的主要部件是其腔室、沉积源、支撑和自动化。该腔室设计用于高密度PECVD操作，比传统的CVD系统具有更高的沉积速率。它是由不锈钢製成，并有几个真空密封件在系统运作时维持真空。该源位于反应堆顶部，包括微波和射频等离子体发生器、气体输出阀以及基板支撑。微波发生器配有频率控制单元，可精确控制微波能量的功率和频率。射频源提供额外的电源并增加沉积速率。基板支架由不锈钢框架和氧化铝陶瓷窗组成，保证基板的均匀加热。自动化系统包括一个用于装卸基板的计算机控制机器人臂，以及用于控制沉积过程的过程自动化软件。Producer SE是生产优越薄膜的高度先进平台。它能够制造出极耐化学和物理降解的薄膜，使其成为许多工业应用的绝佳选择。它还能够沉积性能和可重现性的均匀薄膜。强大的数字驱动器电源也使其成为生产设备和新兴材料的理想选择，用于下一代半导体设备。
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