二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Producer SE #9215461 待售
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ID: 9215461
晶圆大小: 12"
优质的: 2006
CVD System, 12"
FI Robot: KAWASAKI (Vacuum EV missing)
Chamber A: Nano cure (UV Cure)
Chamber B: BD (BlackNN diamond)
Chamber C: Blok (Barrier low-k)
Gas: IGS Type
UV Power supply rack: ASTEX Generator
Chamber A:
Gas / Model / Flow
Ar / UFC-8565 / 30slm
He / UFC-8565 / 30slm
Chamber B:
Gas / Model / Flow
O2 / UFC-8565 / 2slm
O2 / UFC-8565 / 500sccm
He / UFC-8565 / 5slm
TMS / UFC-8565 / 750cc
He / UFC-8565 / 5SLM
He / UFC-8565 / 12slm
NF3 / UFC-8565 / 3slm
Ar / UFC-8565 / 3slm
He / UFC-8565 / 5slm
He / UFC-8565 / 10slm
Chamber C:
Gas / Model / Flow
O2 / UFC-8565 / 3slm
O2 / UFC-8565 / 500sccm
He / UFC-8565 / 5slm
O2 / UFC-8565 / 10slm
He / UFC-8565 /12slm
NF3 / UFC-8565 / 3slm
Ar / UFC-8565 / 3slm
He / UFC-8565 / 5slm
He / UFC-8565 / 5slm
Missing gas for chamber B & C:
mDEOS
ATRP
Missing parts:
PC
Flex
Controller unit
MF Motion controller CPU board
LFC (mDEOSx2, ATRTx2)
Chamber B&C:
Heater power filter
Chamber IO controller unit
Lid assy
2006 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Producer SE是下一代原子层沉积系统，设计用于高通量生产和成本节约。它具有独特的模块化架构，高吸收率的处理室，以及控制算法来增加晶圆均匀性。这样可以在不影响质量的情况下实现更快的吞吐量和更大的成本节约。AMAT Producer SE的模块化架构使其成为晶圆厚度均匀性的经济高效解决方桉。它提供了为满足任何生产量需求而定制的灵活性。其独特的多区设计允许并联反应堆控制和更大的过程参数灵活性，以提高吞吐量。此外，可以配置复杂的反应堆功率剖面，以增强三维均匀性。应用材料生产商SE的高吸收率工艺室有助于最大程度地减少晶圆均匀性测试过程中的失真。它能够在晶片上均匀沉积氮化物、氧化物和其他材料。该系统还具有板载计算机控制器，便于编程和控制。这增强了可靠性和可重复性,并允许在操作参数之间快速切换。生产商SE还配备了先进的控制算法，以确保晶圆厚度均匀性。这包括一个多区域共聚焦反射率系统，可以对沉积材料特性进行精细的详细控制。它也可用于沉积后处理，如应力管理和侧壁轮廓控制。这有助于确保整个晶片的均匀性。AMAT/APPLIED MATERIALS Producer SE非常适合高通量生产和节省成本。其模块化的结构、高吸收率的工艺室以及可靠的控制算法，使其成为生产优质薄膜的经济高效可靠的选择。它是大批量生产运行的理想选择,有助于降低总拥有成本。
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