二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Producer SE #9258633 待售
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已售出
ID: 9258633
晶圆大小: 12"
优质的: 2004
PECVD System, 12"
Process: APF
Chamber configuration: CVD ACL (APF)
(2) Twins chambers
EFEM and mainframe configuration:
EFEM: F1 5.3
FIS: IBM 306m
FES: IBM 306m
RT: VMIC 7326
(2) KAWASAKI FI Robots
FI Robot blade: AL Triangle shape
TDK Loadport
VHP Vacuum robot
Ceramic vacuum robot blade
Vacuum robot driver: NSK Driver
WOB Centerfinder
AC Rack: 208 VAC
Slit valve position: Loadlock / Chamber A / Chamber B
Does not include heat exchanger
Chamber configuration:
Process: APF
Chamber position: Chamber A / Chamber B
MKS Fl80131 (6L) Remote Plasma Source (RPS)
APEX 3013 HF RF Generator
0021-85838 Shower head
Process kit: PECVD Kits
ALN Heater
Gas panel:
Stick 1: O2 (15,000)
Stick 2: AR (5,000)
Stick 3: HE (5,000)
Stick 4: C3H6 (3,000)
Stick 5: N2-Purge
Stick 7: N2 (15,000)
Stick 10: O2 (15,000)
Stick 11: N2-Purge
Stick 12: NF3 (5,000)
Stick 13: AR (10,000)
2004 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Producer SE是一种高度先进的反应性离子蚀刻（RIE）设备，设计用于半导体行业的各种材料蚀刻。它结合了两种技术，即先进的等离子体源和先进的蚀刻源，在一个集成的包。先进的等离子体光源能够以优异的工艺均匀性产生高通量，而先进的蚀刻光源则能够以高长宽比蚀刻各种绝缘体和导体材料。RIE系统的工作原理是将各种气体引入蚀刻室，包括工艺气体、氧化气体和反应性气体。这种气体的溷合物然后通过施加高频电场和Plasmalab源进行电离，从而在蚀刻室中产生均匀的电场，提高蚀刻速率。气体的溷合物一旦被电离，就用射频发生器产生高压离子溅射，然后用高能离子轰击工件。这次轰击从工件表面清除了不需要的材料，允许结构化蚀刻。AMAT Producer SE拥有先进的计算机控制,可优化蚀刻工艺和提高生产率。它的软件实现了蚀刻过程的完全自动化,从而增强了过程控制和更高的可重复性。可以通过可编程参数对不同材料和几何形状的蚀刻工艺进行微调，从而提高工艺的可重复性，显着提高产量。集成的流程配方内存允许对不同的蚀刻序列进行快速的流程设置更改,从而消除了操作员的错误。除了蚀刻能力外，APPLIED MATERIALS Producer SE还提供等离子体辅助沉积工艺，如原子层沉积（ALD），提供高精度的薄膜沉积，并允许创建复杂的闸门结构和装置。这种先进的多功能设备可以显着缩短周期时间并提高生产效率,同时确保过程的准确性和一致性。Producer SE是一种广泛的RIE机器，能够蚀刻各种材料，具有出色的工艺均匀性。它是创建高质量和可重复结构的理想工具,具有传统湿蚀刻工艺无法实现的选择性和长宽比。此外，对不同材料、几何形状和沉积的蚀刻参数进行微调的能力允许更大的过程控制、重复性和提高产量。这些特性使得AMAT/APPLIED MATERIALS Producer SE成为半导体蚀刻应用的理想解决方桉。
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