二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Producer SE #9361863 待售

AMAT/APPLICED MATERIALS Producer SE是一种先进的半导体反应器，旨在提供最大的蚀刻速率、均匀性和灵活性。它是大规模生产半导体晶片的高通量应用的理想选择。AMAT Producer SE的核心是其增强温度控制（ETC）设备,该设备针对高通量进行了优化,具有沉积、蚀刻、灰化和冷却4个处理室。该系统能够提供精确的温度控制，并保持每个单独腔室的最佳热分布。PECVD（等离子体增强化学气相沉积）单元用于应用材料生产商SE的沉积过程。这利用射频驱动的等离子体以高速率沉积均匀的材料层，利用真空中气体溷合物的电子轰击。这可以包括氮化硅、二氧化硅、低k或高k电介质等材料。生产商SE的干蚀刻室是进行材料蚀刻的地方。它针对高通量应用进行了优化，并利用了由高功率射频驱动的电感耦合等离子体（ICP）。这样就可以实现精确、均匀的蚀刻工艺，具有最小的载荷效应和最小的颗粒污染。蚀刻过程还可以包括利用具有多个阈值的400W ICP蚀刻反应堆，以允许在高度复杂的3D结构上进行不同的蚀刻过程。经过处理的材料沉积后，在AMAT/APPLIED MATERIALS Producer SE进行灰化处理。这涉及到对沉积层的高温去除，可以达到高达1000 °C的温度。这有助于确保清洁薄膜和薄膜的高效再生长,以便进一步加工。最后，AMAT Producer SE的冷却室设计为快速而小心地冷却晶片。此冷却步骤很重要,因为晶圆的热剖面会影响工艺结果。这是针对最小时间内的最大冷却而优化的,旨在降低热应力并提高晶圆产量和性能。归根结底，APPLIED MATERIALS Producer SE是一种先进的半导体反应器，旨在提供最大的蚀刻速率、均匀性和灵活性。其增强型温度控制机及其优化的沉积、蚀刻、灰化和冷却室为复杂的3D结构提供了最大的吞吐量,同时最大限度地减少了颗粒污染并保持了热剖面,以实现最佳性能。