二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Producer #135489 待售
看起来这件物品已经卖了。检查下面的类似产品或与我们联系,我们经验丰富的团队将为您找到它。
单击可缩放
已售出
ID: 135489
晶圆大小: 8"
优质的: 1999
CVD system, 8"
Process: HT NIT
Wafer shape: JMF
Wafer size: 8"
Producer type: long mainframe
SMIF: manual
System placement: through the wall
Chambers:
Chamber A: HT NIT
Chamber B: HT NIT
Chamber A:
Heater: ceramic
Clean method: remote plasma
Frequency: dual HF and LF
Manometer: dual 10 / 100 Torr
Chamber B:
Heater: ceramic
Clean method: remote plasma
Frequency: dual HF and LF
Manometer: dual 10 / 100 Torr
Beat exchanger: Steelhead 0
HF generators:
Chamber A: V-(RFG2000-2V)
Chamber B: V-(RFG2000-2V)
LF generators:
Chamber A: V-(DPG-10)
Chamber B: V-(DPG-10)
Mainframe:
Type: Producer long
SMIF: manual
Electrical requirements:
Line frequency: 50 / 60 Hz
Line voltage: 200 / 208V
Line amperage: 400A
System monitor: 1st and 2nd monitors
System placement: through-the-wall
Gas delivery:
MFC type: STEC 4400MC
Valves: FUJIKIN 5 Ra Max
Filters: MOTT
Transducer: MKS without display
Regulators: VERIFLO
Chamber A gases:
N2O, 500 sccm
N20, 5 slm
NH3, 300 sccm
N2, 10 slm
SiH4, 500 sccm
SiH4, 1 slm
Ar, 5 slm
NF3, 3 slm
Chamber B gases:
N2O, 500 sccm
N20, 5 slm
NH3, 300 sccm
N2, 10 slm
SiH4, 500 sccm
SiH4, 1 slm
Ar, 5 slm
NF3, 3 slm
Can be inspected
1999 vintage.
AMAT AMAT/APPLIED MATERIALS Producer是一种化学气相沉积(CVD)反应器,设计用于薄膜涂层的沉积,以提高底物性能和耐久性。这座CVD反应堆装有一个创新的波纹管式垂直电极,允许将薄膜涂层精确一致地沉积到从半导体材料到金属的各种基板上。垂直电极结构还改善了沉积的均匀性,从而提高了涂层厚度控制和产率。AMAT Producer配有一个2米的双室,方便双面晶片生产,最多可同时处理四个厚度各异的晶片。该CVD反应室还利用了快速热凹陷设备,这是一种新的PVD工艺,在其他常规薄膜生产方法的一小部分时间内产生原子层沉积(ALD)或MIPT-ALD涂层。APPLIED MATERIALS APPLEED MATERIALS Producer提供了多功能性和灵活性,允许用户处理各种具有广泛薄膜厚度的基板。它还允许单个晶片和晶片堆迭的多次重新涂层,以获得最佳的吞吐量。其高效的晶圆定位系统搭配多气体溷合能力,进一步提高了沉积均匀性和可重复性。此外,CVD反应室通过利用均匀的温度分布、压力控制和优异的上行时间可靠性,确保了重复过程的结果,而不需要重新加工。AMAT/APPLIED MATERIALS Producer具有直观的图形用户界面(GUI),允许用户实时监视沉积过程和单元状态。这个CVD反应堆还有一个直观的遥控器,允许用户从一个远程位置监视和控制工具的操作。此外,还包括诊断工具以确保流程和资产兼容性,同时内置的安全功能可在发生意外情况时保护模型的操作完整性。综上所述,AMAT AMAT/APPLIED MATERIALS Producer CVD Reactor是一种先进的大功率化学沉积设备,旨在提供改进的基板性能和耐用性。该CVD反应器配备了坚固的技术和直观的控制,使其成为可靠高效的基体沉积解决方桉。AMAT Producer凭借其灵活灵活的设计、卓越的正常运行时间可靠性和先进的GUI,为用户提供了在充满活力的市场中蓬勃发展的灵活性。
还没有评论