二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Producer #166757 待售

AMAT应用材料反应堆（Advanced Materials Atomic Layer Reactor System）是化学气相沉积（CVD）反应堆的先进形式。这些系统能够在分子水平上制造材料薄膜。AMAT/APPLIED MATERIALS反应堆生产的薄膜可用于制造半导体器件，如晶体管、二极管和电容器。反应堆由两个主要组件：侧壁源和等离子体源.侧壁源由含有气体溷合物的两个不锈钢管状元件组成。这种溷合物被加热，离子随后通过管状元素加速进入等离子体源。等离子体源由一个CuNiTi室和一系列电极组成。这些电极要么穿孔，要么有一系列喉孔，当气体溷合物被电离时产生等离子体场。AMAT反应堆达到高达1200 °C的极高温度，这对于保持室内的均匀热分布很重要。这种均匀的热分布有助于确保薄膜均匀沉积在晶片上。这些反应堆中的高温还允许底物暴露于高浓度的反应物气体和等离子体中。这种组合允许更高效、更快和均匀的薄膜涂层到基板，提供一致和可靠的半导体器件性能。对于沉积薄膜，沉积气体前体和反应物气体均以受控方式引入腔室。两种气体溷合物随后被电极激活，引起反应，有助于在晶圆上形成薄膜。薄膜在被冷却剂冷却后取出腔室，提供现成的均匀膜。应用材料反应堆对于生产用于现代电子和计算的半导体越来越重要。随着半导体技术的不断进步和器件尺寸的减小，像AMAT/APPLIED MATERIALS反应堆这样的薄膜沉积能力对于满足需求至关重要。