二手 AMAT / APPLIED MATERIALS PVD Chamber for Endura II #293649500 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS PVD Chamber for Endura II是一种先进的物理气相沉积（PVD）反应器，设计用于微电子和半导体制造应用。此腔室增强了当前的Endura II平台,并通过增强的控制、精度和效率进一步实现了更薄和更小组件的创建。AMAT PVD Endura II室的设计目的是在动态、具有挑战性的环境中实现广泛的沉积特性。坚固的腔室配有先进的组件和控制，在沉积过程中允许更高的准确性和可重复性。其先进的前馈和反馈控制，配合闭环动态压力控制，在广泛的应用条件下实现快速响应和稳定运行。该腔室的基本压力低至1x10-7 Torr，具有可靠的源密封和一个充满氦气的柱式腔室外壳，产生了卓越的性能和坚固的金属蒸发过程。该室配有各种源和气体处理系统，以及自动源高度调节器和高度可配置的墙壁和天花板加热器。这样就能够精确控制层厚、温度和均匀性，并在难以应对的沉积挑战中实现最大保形性。适用于Endura II的APPLIED MATERIALS PVD Chamber也允许对溅射过程进行更大的定制。其离子束辅助沉积和离子蚀刻模块与其他系统相比，促进了更大的溅射均匀性，此外还提高了沉积速率，改善了表面覆盖率，对沉积材料的物理成分和电性能进行了更多的控制。该室还设计方便地融入到现有的Endura II生产线，以及从实验室设置扩大。采用经过时间测试的蒸发算法和先进的溅射沉积输送系统，可提高分批处理的效率和可靠性。总体而言，用于Endura II的PVD腔室在沉积处理方面提供了更高的控制和精度，从而产生了更高质量的微电子元件和更高效的生产工艺。其组合的特性、精密元件和先进技术使公司能够提高制造生产线的精度和速度。