二手 AMAT / APPLIED MATERIALS PVD Chamber for Endura II #293664709 待售

AMAT PVD室专门设计用于Endura II反应堆设备。这个腔室可以方便地进入整个内部，以最大的效率，同时容纳各种各样的基板尺寸。它采用离子淋浴，提高了光照的均匀性，提高了晶圆表面的膜均匀性。该设计允许垂直和水平沉积，使得腔室高度通用不同的应用。坚固耐用的淬火管理系统控制冷却,在沉积过程中提供均匀的薄膜厚度.该单元在四个PVD（物理气相沉积）镀层过程中提供了稳定性和可重复性。它具有集成的安全系统和纯反应性气体去离子器（PRGD）确保在沉积过程中没有气体杂质。反应室还配备了二维线性扫描运动机，移动基板以增强面积均匀性。腔室有大的支撑杆和基座，保证基板定位的准确性。该腔室能够精确控制材料在基质上的剂量和通量，确保稳定和可预测的沉积速率。三维自动运动工具有助于实现批处理运行之间的均匀性。该资产还增加了几个自定义运动和冷却选项,从而提供了灵活性。反应室可用于广泛的应用。其中包括集成电路制造、组件互连以及表面处理，如清洁、平面化和氧化。适用于广泛涂覆铜、铝、钛、钴、铬、钯、退火钨等材料，采用电沉积、反应性溅射沉积、阳极蚀刻和离子轰击沉积等精密工艺。最后，用于Endura II反应堆模型的APPLICED MATERIALS PVD室是一种坚固可靠的设备，旨在为各种应用提供精确和快速的工艺。它是研发用途的理想之选，满足稳定性、重复性、可靠性和高效沉积工艺的工业要求。