二手 AMAT / APPLIED MATERIALS PVD Chamber for Endura II #293664711 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS PVD Chamber for Endura II是一种先进的物理气相沉积反应器，设计用于薄膜沉积。该设备采用独特的专利技术，将保形薄膜沉积在几种基材的大面积上。该系统的多形腔室提供了无与伦比的均匀性和保形性，允许均匀的薄膜沉积在基板的整个区域。通过设计创新的腔室几何形状和优化的气流管理，优化了前体输送和可靠的腔室清洁度。腔室设计结合了扩大的基底-源距离、降低的腔室高度和增强的气流管理机器，以确保可靠的薄膜沉积过程。该室具有与原料分配工具集成的特点，可配置各种原料以及一系列升华和蒸发过程。它还具有先进的安全和控制功能,并具有用于保护人员和设备的自动化过程控制资产。该模型还具有独特的先进硬件辅助过程监控设备，内置诊断和过程参数报告。该腔室设计用于多种应用领域，如掺杂半导体材料、金属氧化物薄膜、聚合物和陶瓷材料。该系统能够在可控工艺参数的情况下对这些材料进行可靠的沉积，从而在大面积上实现高均匀性的可重复、高质量的薄膜。AMAT PVD室的Endura II是一个先进的单元，提供高水平的性能和控制薄膜沉积。该机具有多种功能和安全系统,可在多种应用领域提供可靠、可重复的结果。腔室设计提供了优化的工艺参数、卓越的均匀性和可靠的沉积，使其成为最具挑战性的薄膜沉积工艺的理想工具。