二手 AMAT / APPLIED MATERIALS PVD Chamber for Endura #293669533 待售

AMAT Endura PVD室是专为先进半导体材料加工而设计的物理气相沉积（PVD）反应器。这种最先进的设备提供了处理各种晶圆尺寸和材料所需的可靠性和可靠性，优化了芯片性能和产量，并实现了各种沉积过程。Endura PVD室利用Advanced Materials专有的磁控管溅射和电离物理气相沉积（iPVD）技术,提供卓越的均匀性和可靠性。PVD室由真空系统、目标面、工艺区、机器人转移区和工艺控制单元组成。它具有高精度的机械臂，具有先进的环境控制，可自动传输和处理直径达6英寸的晶圆。这种高性能和稳定性允许高度控制材料特性,从而在密度、厚度、电阻率、蚀刻偏差和步进覆盖范围的大规模运行和晶片到晶片的生产中实现紧密的一致性。Endura PVD室还设计为节能，减少预防性维护的需要。该机器还消除了对昂贵的低温冷却系统的需求，即使是最高温度过程也能稳定下来。该室包括一个专有的高功率封装电源，这有助于减少频繁更换电源的需要，从而提供更可靠和成本效益更高的设备维护。最后，Endura PVD室拥有先进的流程控制系统和诊断，有助于及早监测和发现潜在问题，从而能够快速作出反应，减少停机时间。此外，所有的刀具参数如工艺压力、功率和沉积速率都可以从腔室的车载计算机进行监控和相应调整。结合腔室的综合诊断能力，这些特性创造了一个优化，高度可靠的真空沉积腔室。