二手 AMAT / APPLIED MATERIALS PVD Chamber for Endura #293767111 待售

AMAT公司为Endura平台设计的PVD室是一种物理气相沉积（PVD）反应堆，旨在实现先进的半导体器件制造能力。该系统在工艺能力、腔室配置和整体系统设计方面提供了高度的灵活性。Endura平台的PVD室可用于广泛的沉积过程，包括TiN/W、碳化钨、氧化铝，以及高温金属、合金等其他较为奇特的材料。其圆柱形设计使其高效，有助于保持整个腔室的高度均匀性。Endura平台的标准PVD Chamber具有多项功能,使过程更加可靠和高效。高速静电卡盘在基板上提供可重复和均匀的沉积。双频射频发电机进一步提高了工艺速度，降低了电力消耗。一个原位石英视场允许实时监测整个沉积过程，从而提供宝贵的洞察结果层的质量。温度控制真空室有助于确保整个过程的工作温度保持一致。PVD腔室具有多个自动化和控制级别，使用户可以在从一个工艺过渡到另一个工艺的过程中轻松监控和调整沉积参数。提供了高级软件，以确保准确控制每个单独层和完整涂层批次的所有参数。自动化的流程配方创建也是可能的,这样用户就可以快速启动新的沉积,而无需手动输入。该腔室还可以安装一些可选配件，以进一步提高其性能。一个石英衬里，角度沉积基板支架，射频屏蔽和运动补偿装置都可以添加到PVD腔室。这些配件有助于降低拥有成本，最大限度地减少污染的引入，提高沉积层的一致性。总体而言，Endura平台的PVD室是一个极其可靠、高效和具有成本效益的PVD反应堆。其灵活的设计和稳健的自动化软件使其适合各种不同的应用和材料。随着各种配件的加入，该反应室可以提高产品产量和整体系统性能。