二手 AMAT / APPLIED MATERIALS PVD Chamber for Endura #9202555 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS PVD Chamber for Endura是一种物理气相沉积（PVD）反应器，专门设计用于Endura平台。该腔室用于将薄半导体薄膜沉积到半导体晶片和其他基板上。AMAT Endura的PVD腔室具有钟形结构，顶部装填设计和压力装填锁室。设计有一个大的底部穹顶和两个较小的顶部穹顶，用于装卸基板。这种设计允许在沉积过程中方便地接触基材和晶片。这些腔室由高级不锈钢制成，以确保性能和可靠性。Endura设备还利用模块化磁场发射系统，使气体注入到设备的等离子体中。这允许在沉积过程中使用多种气体，包括惰性、反应性和稀有气体。如果所需的气体不可用,则计算机具有用户对自定义气体配置进行编程的能力。该工具还有一个可选的电荷交换资产，旨在最大限度地减少电荷污染，最大限度地提高沉积均匀性。该室还包含一些集成的安全功能，如传感器以检测压力的突然变化，以及锁定功能以防止使用错误的气体操作。设计了安全功能，以确保腔室的安全可靠运行。除了腔室之外，Endura平台还包含电源、控制器和馈通连接等其他组件。这些元件与APPLIED MATERIALS PVD Chamber for Endura的组合使使用者能够製造高品质的晶圆和基板。微调参数和处理过程的能力为用户提供了为各种应用程序生产自定义材料所必需的灵活性。该腔室已被用于包括半导体、LED、RFID和MEMS技术在内的多种行业。最后，PVD Chamber for Endura为用户提供了在基板上精确沉积薄膜的方便可靠的能力。该室彻底改变了沉积过程，使用户能够为各种应用制作材料。腔室的简单和模块化设计允许对工艺进行调整和定制，使其成为可靠和通用的PVD反应堆。