二手 AMAT / APPLIED MATERIALS PVD Chamber for Endura #9275254 待售
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ID: 9275254
晶圆大小: 12"
优质的: 2006
12"
Process: WSI
Magnet
Cryo pump OB-IF8
Gate valve: VAT
Heater: 0010-27430
Adaptor: 0040-98657
Manometer: 1350-00255
ISO valve: AVT-150M-P-03
ATM gauge: W117V-3H-F12M-X30014
Hot ion / Pirani gauge: 0190-26769
Capacitance pirani gauge: 3310-00073
Pedestal integration box: 0010-28071
SAC CP 10 block board: AS0084-03
Shutter sensor assembly: 0190-10801
Source assembly: 0010-37254
Drivers:
Heater driver: 3096-1007
Wafer lift driver: 0190-15328
Pedestal driver: PV2A015SMT 1PA0-C1
Magnet rotation driver: BXD400B-S
5-Phase driver: A346-043-A4
MFC
N2 100
AR 200
AR 20
Heater lift motor
Shutter motor: PK564AW2-A8
Wafer lift motor: MQMA012AF
No matcher
No defective power supply
2006 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS PVD Chamber for Endura是一种专为物理气相沉积（PVD）设计的反应器。这座反应堆利用难以获得的前体材料将各种薄膜沉积在众多的基板上，包括金属、塑料、陶瓷和玻璃。AMAT PVD Chamber for Endura是一种高性能的工具，用于将薄膜沉积在薄而均匀的层中。它具有两区设计，允许用户控制基板温度和周围大气，以优化沉积过程。这允许精确的薄膜厚度控制,这对于许多PVD应用至关重要。腔室包括高真空环境，使反应温度达到650 °C。该室还具有独特的低气压能力，可将污染风险降至最低。其较大的沉积面积结合温度和压力控制，使薄膜结构得以均匀地增强。此外，PVD室采用定制气体面板，允许引入沉积所必需的反应性气体。另外，该面板可以控制反应室内惰性气体和反应性气体的溷合物。APPLIED MATERIALS PVD Chamber for Endura提供过程控制和理解,从而实现最先进的设备性能。该腔室还能够在电源设备、内存设备和光电设备行业中应用广泛的材料和工艺条件。PVD Chamber for Endura是先进PVD应用的理想工具，允许沉积需要精确沉积参数和温度控制的薄膜。该腔室结合了精度、均匀性、表面完整性等优点及其独特设计的鲁棒性。
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