二手 AMAT / APPLIED MATERIALS PVD Chamber for Endura #9275263 待售
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ID: 9275263
晶圆大小: 12"
12"
Process: ESIP
Magnet
Cryo pump OB-IF8
Gate valve: VAT
Adaptor: 0040-99333; 0040-99334
Manometer: 1350-00255
ATM gauge: W117V-3H-F12M-X30014
Hot ion / Pirani gauge: 0190-26769
Capacitance pirani gauge: 3310-00073
Pedestal integration box: 0010-28071
SAC CP 10 block board: AS0084-03
Shutter sensor assembly: 0190-10801
Source assembly: 0010-32845
ISO valve: AVT-150M-P-03
Defective power supply: 0190-34624
Heater lift motor
Shutter motor: PK564AW2-A8
Wafer lift motor: MQMA012AF.
Drivers:
Heater driver: 3096-1007
Wafer lift driver: 0190-15328
Pedestal driver: PV2A015SMT 1PA0-C1
Magnet rotation driver: BXD400B-S
5-Phase driver: A346-043-A4
MFC:
AR 50
AR 200
No heater
No matcher.
AMAT PVD Endura反应堆是一种最先进的物理气相沉积（PVD）室，用于沉积高质量、专用金属等薄膜。该腔室由一个不锈钢圆柱形反应体积组成，配有功率和射频耦合的进给通量。它设计用于在单个进程运行中处理多个晶片,通常直径可达6"-8"。腔室可配备多种材料源选项，包括溅射、蒸发和磁控管源。反应体积连接到腔室的控制侧，该侧容纳电源、工艺前和工艺后的过程监测，如材料传感器，以及真空泵和压力表。系统中集成了一台计算机,以便在沉积周期中自动调频和调电。腔室的温度范围在5-350摄氏度之间，可加压至1.8毫巴。PVD反应通过维持腔内温度和压力的两级涡旋真空泵系统在腔内保持并耗尽，从而更好地控制沉积过程。该室还配备了质量控制检查，如气体颗粒检测，以确保沉积物的质量和准确性。腔室由高频射频电源供电，能够向晶片表面输送高达500瓦的功率。腔室也可以在脉冲模式下操作，允许更复杂薄膜的脉冲沉积。它还能够在大面积生产厚度精确、均匀的薄膜。恩杜拉反应堆是沉积各种先进材料的有力工具，如陶瓷、氮化物、合金、金属和聚合物。它的多用途设计在不牺牲性能的情况下适应了大范围的基材尺寸，使得复杂的层能够一致地沉积在多个晶片上。恩杜拉反应堆的一套广泛的能力，如精确的厚度控制和均匀性，使其成为市场上最先进的PVD室之一。
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