二手 AMAT / APPLIED MATERIALS PVD Chamber for Endura #9275281 待售
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ID: 9275281
晶圆大小: 12"
12"
Process: IMP TiN
Magnet
Matcher
Heater: 0010-27983
Cryo pump OB-IF8
Gate valve: VAT
Angle vacuum valve: AVT-150M-P-03
Adaptor: 0010-43626
Manometer: 1350-00255
ATM gauge: W117V-3H-F12M-X30014
Capacitance pirani gauge: 3310-00073
Pedestal integration box: 0010-28071
Shutter sensor assembly: 0190-10801
Source assembly: 0010-37254
ISAC CP 10 Block board: AS0084-03
Angle vacuum valve: AVT-150M-P-03
Defective power supply: 0190-34624
Heater lift motor
Shutter motor: PK564AW2-A8
Drivers:
Heater driver: 3096-1007
Wafer lift driver: 0190-15328
Pedestal driver: PV2A015SMT1PA0-C1
Magnet rotation driver: BXD400B-S
5-Phase driver: A346-043-A4
MFC:
AR 150
AR 200
No wafer lift motor
No hot ion / Pirani gauge.
AMAT/APPLIED MATERIALS PVD Chamber for Endura实现了半导体器件制造和其他先进技术应用的精密薄膜沉积。该反应器腔室的设计满足晶片级和模具级工艺最具挑战性的要求，需要高速率、高产率和高性能的薄膜沉积。该室的设计旨在促进快速和高效的聚氯乙烯工艺，并提供各种备选方桉，以适应任何生产环境的需要。Endura腔室具有自动晶片传输和处理功能，腔室顶部和底部均带有环境密封。这是为了尽量减少进入该过程的大气气体。提供了专门的夹紧系统,这样就可以从一个晶圆尺寸快速切换到另一个晶圆尺寸,而无需进行任何物理调整或重新配置。恩杜拉反应器室还有一个独特的两叶快门，允许晶片在加工过程中快速进出。这将对工艺环境的污染降至最低。这些百叶窗中的第一个是在每个晶圆循环开始时移动到位的保护门，阻断了工艺室外颗粒物的形成。第二片叶片位于靠近气体入口的位置，用于调节基板与基板之间的间距，以实现均匀准确的沉积。腔室可以配备一系列特定于过程的气体入口，允许精确的气体输送和控制，从而在整个过程中产生统一的成分。加热元件是为快速斜坡上升/下降速率而设计的，能够准确地控制基板温度和crucible温度。这提供了在广泛的参数范围内调整工艺温度、掺杂轮廓和组成的灵活性。AMAT PVD Endura室是需要精密薄膜沉积工艺的理想解决方桉。该腔室提供可靠和可重复的过程变量控制、严格的环境控制和快速（8秒/晶圆）处理速度。它是生产先进半导体器件和其他需要高吞吐量和可重复性能结果的应用的理想选择。
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