二手 AMAT / APPLIED MATERIALS PVD Chamber for Endura #9275283 待售
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ID: 9275283
晶圆大小: 12"
12"
Process: IMP TT
Magnet
Heater: 0010-27983
Cryo pump OB-IF8
Gate valve: VAT
Angle vacuum valve: AVT-150M-P-03
Adaptor: 0010-43626
Manometer: 1350-00255
ATM gauge: W117V-3H-F12M-X30014
Capacitance pirani gauge: 3310-00073
Pedestal integration box: 0010-28071
Shutter sensor assembly: 0190-10801
Source assembly: 0010-44917
ISAC CP 10 Block board: AS0084-03
Angle vacuum valve: AVT-150M-P-03
Defective power supply: 0190-34624
Heater lift motor
Wafer lift motor: MQMA012AF
Shutter motor: PK564AW2-A8
Drivers:
Heater driver: 3096-1007
Wafer lift driver: 0190-15328
Pedestal driver: PV2A015SMT1PA0-C1
Magnet rotation driver: BXD400B-S
5-Phase driver: A346-043-A4
MFC:
AR 20
No Matcher
No hot ion / Pirani gauge.
AMAT AMAT/APPLIED MATERIALS PVD Chamber for Endura是一种化学气相沉积反应器，用于半导体工业中薄膜和其他材料的沉积。该室设计为在真空沉积系统环境中工作，由工艺室、固定环、有源电极、高频感应电源、真空设备和其他必要部件组成。该工艺室有不锈钢外壁，内壁高度抛光，确保了尽可能高的薄膜质量。它设计为防漏且具有可调的孔径以实现过程控制。它还具有一个固定环，有助于保持腔室牢固地固定。有源电极负责向等离子体增强沉积过程提供必要的输入，由高频感应电源控制。真空系统有助于提供沉积过程所需的必要真空水平，通常在10-6 Torr范围内。为了确保尽可能取得最佳的工艺结果，AMAT Endura PVD会议厅配备了一些创新功能。其中包括可倾斜气体喷射器、可定制的Effusivity监控单元、浮点控制机、闭环溅射枪控制、离子源和可编程偏置电源。此外，会议厅的设计易于升级，使用户能够跟上不断变化的需求，同时确保过程的长期稳定性。总体而言，APPLIED MATERIALS PVD Endura室提供了一个高效、可靠和通用的先进腔室，使用户能够在许多生产周期内研制出精确可靠的薄膜。从大学实验室到半导体行业，先进的功能使该室成为各种用户的理想选择。PVD Chamber for Endura具有成本效益和可靠的性能,是满足许多薄膜要求的完美解决方桉。
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