二手 AMAT / APPLIED MATERIALS PVD Chamber for Endura #9275288 待售
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ID: 9275288
晶圆大小: 12"
12"
Process: RFxT Cu
Magnet
Heater: 0010-27983
Cryo pump OB-IF8
Gate valve: VAT
Angle vacuum valve: AVT-150M-P-03
Adaptor: 0041-06142; 0041-25104
Manometer: 1350-00255
ATM gauge: W117V-3H-F12M-X30014
Capacitance pirani gauge: PCG55003310-00288
Pedestal integration box: 0010-28071
Hot ion / Pirani gauge: 0190-26769
Shutter sensor assembly: 0190-10801
Source assembly: 0010-44917
ISAC CP 10 Block board: AS0084-03
Angle vacuum valve: AVT-150M-P-03
Defective power supply: 0190-34624
Heater lift motor
Wafer lift motor: MQMA012AF
Shutter motor: PK564AW2-A8
Drivers:
Heater driver: 3096-1007
Wafer lift driver: 0190-15328
Pedestal driver: PV2A015SMT1PA0-C1
Magnet rotation driver: BXD400B-S
5-Phase driver: A346-043-A4
MFC:
AR 20
AR 20
AR 200
No Cryo pump.
AMAT（应用材料）AMAT/APPLIED MATERIALS PVD Chamber for Endura是一种高性能物理气相沉积（PVD）反应器，旨在满足半导体工业的严格要求。此模块化平台为各种应用程序提供了一系列的热、化学和物理处理功能。该腔室具有坚固的设计，为各种金属沉积和材料加工需求提供了宽广的工艺窗口。它最多可容纳四个流程模块，允许用户快速重新配置和调整布局，以适应新技术或应用。腔室的模块化结构和可重新配置的布局使最终用户能够快速适应过程变化，从而实现更快的技术过渡。PVD腔室由多种工艺气体提供动力，包括湿式和干式沉积，并具有自动调节阀和质量流量控制器。Endura还设计了先进的冷却系统,以最大限度地提高整个过程模块的热均匀性,消除热点并确保上层沉积。PVD腔室能够沉积各种金属和材料，如铜、钨、铝和钛。它还提供了许多独特的工艺能力，例如高速率溅射沉积，用于在先进的基板上沉积高质量的涂层。该腔室还具有可编程选项，用于改变阴极直径和目标速度，以实现复杂的形状沉积轮廓和薄膜特性。密室本身被一个电子柜包围，该电子柜装在环境级绝缘聚氨酯面板中，确保对环境的影响最小。机柜中的控制器链接到XPS系统，允许压力、温度和工艺参数被自动调节和监控。此外，该腔室通过用户友好的触摸面板操作，使用户能够轻松管理参数、跟踪配方和监控腔室系统。总体而言,AMAT PVD Chamber for Endura是半导体生产的理想选择,具有灵活的设计、强大的工艺能力和易于操作的特点。无论您是在存放各种各样的金属和材料,还是在寻找更复杂的工艺特性,APPLIED MATERIALS PVD Chamber for Endura都能为您的生产需求提供可靠而强大的解决方桉。
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