二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Siconi R2 #9375625 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS Siconi R2反应堆是一种CVD（化学气相沉积）炉，用于在半导体晶圆等薄膜器件等基板上制造薄膜。AMAT Siconi R2的设计目的是提供可靠和可重复的沉积结果，具有精确的薄膜厚度、均匀性和组成精度。该炉采用温度控制，采用石英炉膛设计，在整个晶片平面上支撑和保持+/-3°C的温度均匀性，同时提供均匀的沉积以及优异的薄膜结晶度、折射率和介电常数。它还包括一个双排气系统，能够更好的温度和压力控制，并允许改善沉积均匀性。APPLICED MATERIALS Siconi R2还有一个低温无底气面板，允许快速流动的电池交换和使用多种试剂的能力。反应堆还支持低压领结和狭缝喷射器、气体溷合电池以及预热和后加热，以提高膜性能。Siconi R2除了具有沉积能力外，还包括工艺分析和监测，以确保取得高质量的成果。反应堆设有实时/运行结束监控，其中包括现场系统诊断，以检测过程中的问题。它还包括一个板载系统,可以收集、存储和分析性能数据,以创建自动化的流程审核跟踪,并提高CVD流程的可靠性和可重复性。AMAT/APPLIED MATERIALS Siconi R2还支持广泛的晶片基板，包括单晶、非晶、化合物和氧化物材料，使其成为多种应用的理想选择，包括内存和逻辑器件制造、纳米结构和高k介电层。总体而言，AMAT Siconi R2提供了可靠和可重复的CVD沉积，具有精确的薄膜厚度和均匀性，为许多不同类型的工艺提供了高质量的结果。该反应堆具有多种特点，能够改进工艺性能和监测，使其成为薄膜沉积应用的一种通用和可靠的选择。