二手 AMAT / APPLIED MATERIALS SIP Chambers for Endura CL #293664859 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS SIP Chamber for Endura CL是一种反应器，设计用于在真空环境内进行化学气相沉积（CVD）、物理气相沉积（PVD）和机械化学过程。用于制造半导体器件，包括晶体管、存储器、集成电路等微电子元件。SIP室由几个相互连接的部件组成，包括反作用室、排气设备、热壁炉、入口和出口歧管、加热和冷却元件、真空泵和控制器。它呈圆柱形，通常由不锈钢和铝构成。反应室内径约8英寸，垂直高度约4英尺。腔壁加热至300至1200 °C的温度，允许低温化学。热壁炉允许反应室均匀加热。加热元件位于炉的内壁，由陶瓷、石墨或金属材料组成。炉子里装有一个用于精确温度控制的热电偶.通过设定氧气流量可以进一步控制这一过程。真空泵在反应室内保持所需的背景压力。该系统采用冷冻泵，可达到0.1 Torr的基压。AMAT SIP Chamber for Endura CL是为了在化学、温度和吞吐量等方面的多功能性而设计的。它提供精确的沉积控制，具有良好的均匀性和可重复性。该装置能够生产广泛的薄膜，如金属硫属化物、III-V化合物和介电材料。APPLICED MATERIALS SIP Chamber for Endura CL为制造半导体微电子元件提供了一个安全高效的平台。它确保了一致的产品质量、改进的设备性能和优化的过程参数。该机器非常适合各种应用，包括微电子制造、光学、光电子和光电子封装。