二手 AMAT / APPLIED MATERIALS System #293654409 待售

AMAT / APPLIED MATERIALS System
ID: 293654409
晶圆大小: 8"
8" Chamber.
AMAT/APPLIED MATERIALS Equipment是一种高性能等离子体增强化学气相沉积(PECVD) AMAT系统。其设计为单晶片式全金属陶瓷真空室,包含可配置的双电容耦合等离子体源和多个加热区。这一应用材料单元可用于各种应用,包括半导体、光电子和微机电系统(Micro-Electro-Mechanical Systems)的薄膜沉积和表面改性过程的精确控制。Machine中的双等离子体源将射频功率和工艺气体结合在一起,产生高能反应性物质。这些物质散布在加热的晶片上,形成均匀的沉积和广泛的表面改性。此外,多晶硅沉积过程也通过使用更高的射频功率和微调气流得到改善。晶圆的温度通过先进的热区管理AMAT/APPLIED MATERIALS TOOL进行管理。该AMAT资产由多个独立的加热温度组成,允许完全控制热循环。使用高级PID(比例、积分和导数)控制对每个区域的温度进行监测和调整。还可以精确调整过程的温度平面以适应应用程序的需要。PECVD反应器也有内置的冷阴极电离真空(CCIV)泵,提供最高程度的真空控制。这样就消除了对外部真空泵的需求,从而降低了成本并提高了APPLIED MATERIALS MODEL性能。CCIV泵设计用于处理设备产生的大量气体,同时提供极低的气体压力。最后,AMAT/APPLIED MATERIALS系统可以与AMAT过程控制软件集成.该软件允许用户远程监视和控制整个AMAT单元,提供沉积和表面修改过程的完全可见性。通过自动化过程,APPLIED MATERIALS Machine确保了最佳性能和效率。
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