二手 AMAT / APPLIED MATERIALS T002-00360 #293655401 待售

AMAT AMAT/APPLIED MATERIALS T002-00360是一种计算机控制的等离子体反应器，用于化学气相沉积（CVD）工艺。用于蒸发硅、氮化硅、钛和钨等各种材料，形成薄膜涂层。AMAT T002-00360有一个气体溷合物设备，可以根据个别工艺要求量身定制，包括直接发热或直接产生等离子体的选项。应用材料T002-00360反应器设计用于在整个腔室空间输送均匀气体溷合物，确保均匀沉积。这种坚固、可靠且易于操作的反应堆可以在大型晶片基板上提供一致且可重复的薄膜沉积物。T002-00360具有计算机控制的压力和气流控制系统，可用于最佳和可重复的工艺条件。它采用扩散型气体分配方法，以确保蒸气在基板上的均匀流动。AMAT/APPLIED MATERIALS T002-00360还可以配备石英管，通过该石英管将蒸发材料添加到等离子体中。该单元的坚固设计确保了一个稳定和一致的过程，并且该过程参数的灵活性允许各种材料的沉积。AMAT T002-00360还采用基于激光干涉测量的端点检测（EPD）机器,用于准确检测沉积过程的结束,优化沉积材料的化学计量。环保署亦使用该工具监察沉积膜的轮廓，以确保达到理想的沉积均匀性。APPLIED MATERIALS T002-00360适用于所有低温PECVD、ALD和CVD应用。重要的是要注意，T002-00360需要例行维护和重新校准，以确保长期的一致和可重复的结果。优质材料的使用也将确保沉积层的均匀性和性能在整个单元的使用寿命中得到保持。总体而言，AMAT/APPLIED MATERIALS T002-00360是用于各种CVD工艺的先进、可靠和可靠的等离子体沉积资产。它在大型晶片基板上提供统一的覆盖范围，并配备创新技术以提高准确性和效率。AMAT T002-00360也非常灵活,允许根据应用程序自定义流程参数。定期维护和重新校准,APPLIED MATERIALS T002-00360是先进的CVD工艺的绝佳选择.