二手 AMAT / APPLIED MATERIALS TCG Rack for RTP #293662056 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS TCG Rack for RTP （Thermal Chemical Vapor Deposition）是一种最先进的反应器,设计用于控制各种应用的沉积过程,从半导体材料如硅和移到各种金属和介电层。机架由三个组件组成：气体分配系统、电源和温度控制单元。气体分配系统提供制造所需材料所需气体的精确溷合。电源保证了反应性气体的有效利用和沉积速率的直接控制。控制单元提供了获得所需特性材料所需的温度循环。机架的设计能够为沉积过程提供准确的控制和灵活性，并防止不需要的薄膜污染和沉积在基板上。它具有调节量的气流，以及恒定的排气流，以去除反应室中的副产物。气流最多可分为四个单独的输出，在同一批中处理要求不同的不同基板。机架配备了广泛的温度控制选项，从300 °C到880 °C（572 °F到1616 °F）。电源由一个AC-或DC控制的电阻加热器和一个比例阀组成，将气体流量设置在所需的水平。机架可以处理多种基板，包括半导体晶片、玻璃滑轨和OLED基板。它能够实现高精度的沉积速率，并与多种气体兼容性，包括氧气、氢气、氮气、硅烷、二氯硅烷和氢烷等。简而言之，用于RTP的AMAT TCG机架是一种前沿反应器，为薄膜和厚膜沉积应用提供最严格的工艺控制和最高的灵活性。它具有精确的温度调节、广泛的气体和优良的基板覆盖率，提供所有必要的工具来获得优异的沉积效果。