二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Twin chamber for Producer SE #293665501 待售

AMAT Producer SE Twin Chamber Reactor是一种坚固、易于操作的批处理设备，设计用于硅片的高速度蚀刻和沉积。这种先进的双室处理系统提供了最终的过程灵活性，能够处理蚀刻、沉积和两种过程的组合。Producer SE Twin Chamber Reactor允许高通量处理，并能实现出色的薄膜步长覆盖和高调的均匀性。第一室，蚀刻室，处理多达九个单独控制的晶片和特点和侵略性气体输送单元和导体晶片装载支撑。该腔室以HF为前体蚀刻氧化硅和氮化物。采用先进质谱仪和高灵敏度振动器等高端技术，可实现蚀刻速率和选择性，结合先进的表面温度控制和闭环晶片装载机，可获得良好的工艺收率和可重复性。第二室，即沉积室，具有集成的垂直淋浴头，保证了良好的沉积均匀性和可重复性。高性能淋浴头由先进的排气和流量温度测量支持，以确保低污染水平。该腔室设计用于处理两到六个单独控制的晶片，并使用高温膜如PECVD TEOS作为其前体。采用闭环晶片加载工具和先进的质谱资产，可实现沉积性能的最大化，实现良好的膜步长覆盖。Producer SE Twin Chamber Reactor为大规模加工而设计。transport模型提供了多达50个晶片的高效自动化处理，进一步提高了设备的吞吐量。它是一个改进的系统，具有改进的控制软件和先进的过程监控能力。它允许对每个步骤的过程参数进行完全自定义,并提供了极其快速和轻松的设置。因此,流程在最佳条件下运行,同时提高产量和缩短周期时间。这种先进的两室处理装置可以为蚀刻和沉积应用提供极致的工艺灵活性。