二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Ultima HDP-CVD #9139463 待售

AMAT/应用材料Ultima HDP-CVD是一种先进的化学气相沉积反应器,旨在为Advanced Materials客户提供高质量的薄膜层沉积。该反应堆的一个关键特点是其高密度等离子体（HDP）能力。HDP源的配置允许在整个基板上进行一致和均匀的等离子体激发，提供均匀且无缺陷的薄膜层，具有突出的可重复性。使AMAT Ultima HDP-CVD成为薄膜沉积的一个有吸引力的选择的其他特点包括它的自动化工艺优化程序，它可以提供对工艺参数的精确控制，以及它的高电容主动等离子体电源，确保在广泛的工艺气体中稳定而坚固的等离子体激励。应用材料ULTIMA HDP-CVD利用热壁光源，采用高频等离子体激发技术。这产生了一种均质等离子体，促进了沉积优质薄膜层所必需的持续化学活性。与冷壁源不同，Ultima HDP-CVD中使用的热壁型不需要外部加热的外壳来达到所需温度。这简化了操作，节省了能源。反应堆能够生产各种构型的薄膜材料，包括单层至多层。它还建立在一个工业级机器人工艺平台上，允许沉积环境的精确工程。这种设计允许用户自动化沉积过程，减少了对体力劳动的需求，增加了系统的吞吐量。该系统被设计为完全集成在工厂环境中,从而实现了高效的生产过程,并且维护的停机时间最短。此外,该软件还提供高级安全功能,以确保整个过程的安全操作。AMAT/APPLIED MATERIALS Ultima HDP-CVD也与大多数供应源兼容，可以与一系列的基板搭配使用。这使得它适合于多种应用，例如生产集成逻辑和内存设备、纳米结构和薄膜光学元件。综上所述，AMAT Ultima HDP-CVD是一种先进的化学沉积反应器，具有良好的沉积质量和可重复性。它具有一个热壁等离子体源，它提供了一个均匀的等离子体，并在一定温度范围内运行，从而实现了广泛的过程。它的自动化过程优化功能和集成设计还可以提高效率和降低维护成本。APPLICED MATERIALS Ultima HDP-CVD是许多应用的一个吸引人的选择，包括集成逻辑和内存装置、纳米结构、薄膜光学元件的制造。