二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Ultima HDP #293797292 待售

AMAT / APPLIED MATERIALS Ultima HDP
ID: 293797292
晶圆大小: 8"
CVD Systems, 8" (3) HDP Chambers Cassette stage: 25-Position LL Type: Wide body Light tower: 4 Light Dual Hard Disk Drive (HDD) Gas type: SiF4, O2, SiH4, Ar, NF3 STEC Z512 MFC Process cooling Gas box exhaust SEC II/GEM (2) BROOKS AUTOMATION LPT2200 Smoke detector Monitor and light pen: (2) Flat panels with touch screen MFC Type: BROOKS AUTOMATION GF100 Type / Flow (SCCM) SiF4 / 100 O2 / 400 SiH4 / 200 Ar / 300 SiH4 / 20 Ar / 50 NF3 / 2000 Ar / 2000 Power supply: 208 V, 50 W, 3 Phase, 50 Hz.
AMAT/APPLIED MATERIALT Ultima HDP反应器是用于等离子体沉积和蚀刻薄膜的等离子体加工室。它旨在在精密薄膜沉积和蚀刻过程中提供高质量的均匀性和生产率。HDP反应堆配备了先进的电子回旋共振(ECR)磁场,在大面积上提供均匀的等离子体蚀刻和沉积。ECR产生均匀的电场来电离和加速气体分子,产生具有更一致蚀刻和沉积的高度均匀的等离子体。HDP反应器由不锈钢构成,具有大的加工室,冷却剂气体流过腔室流量高,以提高热均匀性。它还具有双沉积源增强均匀性,能够在多个等离子体之间交替切换以便沉积多层。AMAT Ultima HDP是一种精密蚀刻和沉积薄膜的强大工具。它提供了行业领先的吞吐量、一致的均匀性和优于传统等离子加工工具的微观结构控制。改进的均匀性和温度控制部分是由于穿孔墙设计使气体均匀地通过加工室。应用材料Ultima HDP包括先进的压力控制和传感技术及能力。HDP反应堆可以显着扩展和集成工艺,为客户提供更好的吞吐量和生产率,同时提高沉积和蚀刻工艺的控制水平。它是一个通用的解决方桉,能够与流程的其他组件直接集成,并集成到现有的清洁室环境中。Ultima HDP是AMAT系列等离子体加工工具的一部分,在蚀刻、沉积和表面改性方面具有多种功能。它旨在满足当今高科技研究中心和制造工厂的需求。在APPLICED MATERIALS提供的全公司客户支持的支持下,客户可以从他们的技术和生产过程中获得最佳效果。
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