二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Ultima X #9236849 待售

AMAT/APPLIED MATerials Ultima X是一种高温超高真空沉积设备，设计用于精密薄膜形成。该系统使用感应耦合等离子体（ICP）源，使几种材料在半导体基板以及其他材料上的高精度薄膜沉积。该单元设计为实现极其精确的薄膜厚度剖面，采用可选的激光干涉仪和大功率石英晶体监视器来控制薄膜厚度沉积。AMAT Ultima X反应堆有计算机控制、密封的工艺室，并配有单源等离子体源和整体排气机。此工具具有从室温到1050°C的各种可调节工艺温度,并且可以达到高达200 nm/min的沉积速率。这种高沉积速率使得它特别适合于需要快速沉积速率的应用，如铜屏障/衬里应用。APPLICED MATERIALTIES Ultima X资产有一系列可用的附件和功能，其中包括各种可以精确控制各种气流和压力的气体控制系统，以及用于沉积高纵横比结构的无电极动力平面源。超高真空（Ultra-High Vacuum，UHV）模型可以提供10-7 Torr的基础压力，用于以最小的污染精密沉积超薄层。Ultima X还包括各种计算机辅助设计（CAD）软件包,可轻松对沉积作业进行编程。除了计划中的沉积作业外，用户还可以尝试沉积作业并根据需要进行微调。您可以在此设备上运行单个晶片/腔室级沉积或多个晶片/腔室级沉积。AMAT/APPLIED MATERIALTIES Ultima X是铜、钛、全新、石墨、铝、的薄膜沉积以及其他材料的理想选择，是研发、高端制造、生产系统的理想选择。它设计灵活，是满足复杂沉积要求的一种经济高效的方法。