二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Ultima X #9249285 待售
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已售出
ID: 9249285
晶圆大小: 12"
优质的: 2009
HDP CVD System, 12"
(2) Load ports
FI Alignment: FI Alignment fixtures
Atmospheric robots: YASKAWA XU-RCM6841
Monitors: Chase type (Rack)
Slit valve:
(2) Parker AD276510A
(3) VAT A-728585
Transfer chamber robots: STD Reach dual blade robot (Clear Lid)
Chiller: SMC INC-498-011C
Chamber A:
TMP: SHIMADZU TMP-H3603LMC-A1
Gas ring: 36
RPC: AX7670
Process Kit
Chamber B:
TMP: EDWARDS STP-XH3203P
RPC: AX7670
Process Kit
Chamber D:
TMP: EDWARDS STP-XH3203P
Process Kit
RF Generator type:
(6) MKS Spectrum 11002
(3) MKS Spectrum 10513
Gas configurations:
Chamber A:
Gas Size
Line 1 O2 1,000
Line 2 H2 1,000
Line 3 He 600
Line 4 SiH4 400
Line 5 Ar 1,000
Line 6 He 600
Line 7 H2 1,000
Line 8 SiH4 50
Line 9 Ar 50
Line 10 NF3 400
Line 11 NF3 5,000
Line 12 Ar 3,000
Chamber B:
Gas Size
Line 1 O2 1,000
Line 2 H2 1,000
Line 3 He 600
Line 4 SiH4 400
Line 5 PH3 20
Line 6 Ar 1,000
Line 7 PH3 10
Line 8 SiH4 50
Line 9 Ar 50
Line 10 He 600
Line 11 NF3 3,000
Line 12 Ar 3,000
Chamber D:
Gas Size
Line 1 O2 1,000
Line 2 H2 1,000
Line 3 He 600
Line 4 SiH4 400
Line 5 PH3 20
Line 6 Ar 1,000
Line 7 PH3 10
Line 8 SiH4 50
Line 9 Ar 50
Line 10 He 600
Line 11 NF3 3,000
Line 12 Ar 3,000
2009 vintage.
AMAT/APPLIED MATerials Ultima X是一种反应堆，用于材料层沉积在晶圆和其他基板上。它被设计用于半导体工业，被认为是当今可用的最可靠、精确和生产性最强的反应堆之一。AMAT Ultima X反应堆是为广泛的沉积过程而建造的，如化学气相沉积（CVD）、物理气相沉积（PVD）、原子层沉积（ALD）等等。它的设计包括一个加热的隔热室，该隔热室有多层加热，以便对材料进行精确沉积。它有两到八个腔室，视工艺要求而定，每个腔室都配有调节温度、压力和气体流量的输送设备，以获得最佳效果。应用材料Ultima X提供了高水平的性能和可靠性。其高温梯度，加上低热质量，使得沉积速率高，可将工艺时间减少多达40%。其先进的设计还可以实现低温均匀性、低热漂移和更高的使用寿命性能。Ultima X还提供可选的就地清洁（CIP）和快速解决方桉传输（RST）功能,以确保快速高效的处理。AMAT/APPLIED MATERIALT Ultima X还提供了先进的控制系统，以最大限度地提高单位效率和可靠性。其集成控制机为高性能和灵活性而设计，允许用户根据每个应用程序的具体需求定制工具的操作。它包括现场诊断和校准、高速同步、集成气流和温度控制等功能，等等。总体而言，AMAT Ultima X是一种先进、可靠、高性能的反应堆，专为半导体工业中的沉积过程而设计。它具有高沉积速率、低热漂移和集成控制资产,能够提供准确、精确和一致的结果,即使对于要求很高的过程也是如此。
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