二手 APPLIED MATERIALS Centura 5200 DXZ #64984 待售

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ID: 64984
Darc Silane CVD System, 8" 208A, 3 Phase, 50/60Hz 87KVA, 10,000amps Chamber A,B,C: DxZ Silane Chamber, E: Single Cool Down, F: Orienter Process gas used: SiH4, H2, CF4, HE Wide Body Loadlock, HP Robot SNNF, HP Robot" 2000 vintage See attached for more specifications.
APPLIED MATERIALS Centura 5200 DXZ是为制造半导体器件而设计的半导体加工反应器。反应堆具有大面积晶圆传递室和带有两个小面积负载锁的加工室。它为晶体管、二极管、晶体管等的生产提供高精度、高精度的工艺控制。Centura 5200 DXZ提供了具有高速线性磁控管的集成离子源,提供了高均匀度的离子源场、可调电流密度以及精确的目标到晶圆距离。反应堆拥有大面积真空设备和具有双粗加工泵和多个进/出端口的整体热壁疏散系统。APPLIED MATERIALS Centura 5200 DXZ反应堆单元包括三个可作为独立工具或串联使用的独立腔室。转运室提供高速处理和大面积基板装卸能力。该工艺室包括一个高速旋转磁控管源,用于提高均匀性和对基板的微粒控制。第三室是蚀刻室,利用大功率波导磁控管提供均匀、高速率的各向异性蚀刻。Centura 5200 DXZ反应堆机提供了几个高级功能。它有一个自动的基板清洗和制备技术,允许提高产量和更快的循环时间。它还包括一个集成的原位诊断工具,实时监测和调整晶圆温度和化学反应。反应堆提供细粒度调整多种参数,如轮廓、剂量、速度和温度。应用材料Centura 5200 DXZ反应堆资产设计用于从光刻到多层沉积、蚀刻和沉积过程的广泛过程。适用于复合半导体上,如砷化的,产率和循环时间增加。它还能够处理高能植入,如光刻、计量和光刻剥离,而不会影响性能。Centura 5200 DXZ凭借其精确的控制、高密度、高精度的运行,是半导体行业的宝贵工具。
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